电子学报
電子學報
전자학보
ACTA ELECTRONICA SINICA
2008年
8期
1485-1489
,共5页
于军胜%锁钒%黎威志%娄双玲%蒋亚东
于軍勝%鎖釩%黎威誌%婁雙玲%蔣亞東
우군성%쇄범%려위지%루쌍령%장아동
有机电致发光%电流传导%陷阱电荷限制电流%薄膜厚度%数值拟合
有機電緻髮光%電流傳導%陷阱電荷限製電流%薄膜厚度%數值擬閤
유궤전치발광%전류전도%함정전하한제전류%박막후도%수치의합
采用真空蒸镀的方法制备了以八羟基喹啉铝(Alqb)为功能层的单层同质结有机电致发光器件,器件结构为indium-lin-oxide(rro)/tris(8-hydroxylquinoline)-aluminum(Alq3)(x nm)/Mg:Ag.通过改变有机功能层的厚度,采用陷阱电荷限制电流(眦)理论对器件电流的数值拟合方法具体地研究了不同薄膜厚度的有机半导体器件内部电流的传导机制,验证了实验结果和理论推导的一致性.结果表明,Alq3层厚度较低的单层器件随外加电压增大,器件电流经历了从欧姆电导区、TEIE区到TCLC.空间电荷限制电流(SCLC)过渡区三个区域的变化;而对于Alq3层厚度较高的单层器件,Alq3层中的陷阱机构增多,导致电流一电压曲线的SCLC区域消失.
採用真空蒸鍍的方法製備瞭以八羥基喹啉鋁(Alqb)為功能層的單層同質結有機電緻髮光器件,器件結構為indium-lin-oxide(rro)/tris(8-hydroxylquinoline)-aluminum(Alq3)(x nm)/Mg:Ag.通過改變有機功能層的厚度,採用陷阱電荷限製電流(眥)理論對器件電流的數值擬閤方法具體地研究瞭不同薄膜厚度的有機半導體器件內部電流的傳導機製,驗證瞭實驗結果和理論推導的一緻性.結果錶明,Alq3層厚度較低的單層器件隨外加電壓增大,器件電流經歷瞭從歐姆電導區、TEIE區到TCLC.空間電荷限製電流(SCLC)過渡區三箇區域的變化;而對于Alq3層厚度較高的單層器件,Alq3層中的陷阱機構增多,導緻電流一電壓麯線的SCLC區域消失.
채용진공증도적방법제비료이팔간기규람려(Alqb)위공능층적단층동질결유궤전치발광기건,기건결구위indium-lin-oxide(rro)/tris(8-hydroxylquinoline)-aluminum(Alq3)(x nm)/Mg:Ag.통과개변유궤공능층적후도,채용함정전하한제전류(자)이론대기건전류적수치의합방법구체지연구료불동박막후도적유궤반도체기건내부전류적전도궤제,험증료실험결과화이론추도적일치성.결과표명,Alq3층후도교저적단층기건수외가전압증대,기건전류경력료종구모전도구、TEIE구도TCLC.공간전하한제전류(SCLC)과도구삼개구역적변화;이대우Alq3층후도교고적단층기건,Alq3층중적함정궤구증다,도치전류일전압곡선적SCLC구역소실.