光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2009年
9期
2353-2358
,共6页
申振峰%高劲松%陈红%王笑夷%王彤彤%郑宣鸣
申振峰%高勁鬆%陳紅%王笑夷%王彤彤%鄭宣鳴
신진봉%고경송%진홍%왕소이%왕동동%정선명
SiC反射镜%表面改性%等离子辅助%RB-SiC%可靠性
SiC反射鏡%錶麵改性%等離子輔助%RB-SiC%可靠性
SiC반사경%표면개성%등리자보조%RB-SiC%가고성
根据空间应用项目需求,采用等离子辅助电子束蒸发方法对RB-SiC基底进行了表面改性,并对表面改性的性能和可靠性进行了相关评估.经测试,改性后RB-SiC基底表面粗糙度(rms)降低到0.632 nm;散射系数降低到2.81%,500～1 000 nm范围的平均反射率提高到97.05%,已经接近于抛光良好的微晶玻璃的水平;改性涂层温度稳定性高,与基底结合牢固;加工后,面形精度达到0.119λ(PV)和0.014λ(rms),λ=632.8 nm.评估结果表明,这种SiC基底表面改性的工艺是可靠的,其光学性能满足空间高质量光学系统的要求,适宜空间环境应用.
根據空間應用項目需求,採用等離子輔助電子束蒸髮方法對RB-SiC基底進行瞭錶麵改性,併對錶麵改性的性能和可靠性進行瞭相關評估.經測試,改性後RB-SiC基底錶麵粗糙度(rms)降低到0.632 nm;散射繫數降低到2.81%,500～1 000 nm範圍的平均反射率提高到97.05%,已經接近于拋光良好的微晶玻璃的水平;改性塗層溫度穩定性高,與基底結閤牢固;加工後,麵形精度達到0.119λ(PV)和0.014λ(rms),λ=632.8 nm.評估結果錶明,這種SiC基底錶麵改性的工藝是可靠的,其光學性能滿足空間高質量光學繫統的要求,適宜空間環境應用.
근거공간응용항목수구,채용등리자보조전자속증발방법대RB-SiC기저진행료표면개성,병대표면개성적성능화가고성진행료상관평고.경측시,개성후RB-SiC기저표면조조도(rms)강저도0.632 nm;산사계수강저도2.81%,500～1 000 nm범위적평균반사솔제고도97.05%,이경접근우포광량호적미정파리적수평;개성도층온도은정성고,여기저결합뢰고;가공후,면형정도체도0.119λ(PV)화0.014λ(rms),λ=632.8 nm.평고결과표명,저충SiC기저표면개성적공예시가고적,기광학성능만족공간고질량광학계통적요구,괄의공간배경응용.
