华东理工大学学报（自然科学版）
華東理工大學學報（自然科學版）
화동리공대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF EAST CHINA UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY(NATURAL SCIENCE)
2004年
5期
609-612
,共4页
陆慧%陆元成%张波%张月兰%潘孝仁
陸慧%陸元成%張波%張月蘭%潘孝仁
륙혜%륙원성%장파%장월란%반효인
纳米ZnO薄膜%沉积%表面形貌%晶体结构%应力
納米ZnO薄膜%沉積%錶麵形貌%晶體結構%應力
납미ZnO박막%침적%표면형모%정체결구%응력
采用气体放电活化反应蒸发技术(GDARE),以玻璃为衬底,在较低的温度下沉积纳米ZnO薄膜,用二次蒸镀法克服薄膜生长饱和问题、有效增加膜厚及改善薄膜质量.讨论了GDARE法低温下沉积纳米ZnO薄膜的生长过程及成膜机理.由原子力显微镜(AFM)和X-射线衍射谱(XRD)分析薄膜表面形貌和晶体结构,研究结果表明,二次蒸镀法沉积的双层纳米ZnO薄膜具有更好的结晶质量及长期稳定性,薄膜沿c轴高度取向生长,内应力较小,晶粒尺寸均匀,平均粒径约35 nm,表面粗糙度降低.
採用氣體放電活化反應蒸髮技術(GDARE),以玻璃為襯底,在較低的溫度下沉積納米ZnO薄膜,用二次蒸鍍法剋服薄膜生長飽和問題、有效增加膜厚及改善薄膜質量.討論瞭GDARE法低溫下沉積納米ZnO薄膜的生長過程及成膜機理.由原子力顯微鏡(AFM)和X-射線衍射譜(XRD)分析薄膜錶麵形貌和晶體結構,研究結果錶明,二次蒸鍍法沉積的雙層納米ZnO薄膜具有更好的結晶質量及長期穩定性,薄膜沿c軸高度取嚮生長,內應力較小,晶粒呎吋均勻,平均粒徑約35 nm,錶麵粗糙度降低.
채용기체방전활화반응증발기술(GDARE),이파리위츤저,재교저적온도하침적납미ZnO박막,용이차증도법극복박막생장포화문제、유효증가막후급개선박막질량.토론료GDARE법저온하침적납미ZnO박막적생장과정급성막궤리.유원자력현미경(AFM)화X-사선연사보(XRD)분석박막표면형모화정체결구,연구결과표명,이차증도법침적적쌍층납미ZnO박막구유경호적결정질량급장기은정성,박막연c축고도취향생장,내응력교소,정립척촌균균,평균립경약35 nm,표면조조도강저.
