固体电子学研究与进展
固體電子學研究與進展
고체전자학연구여진전
RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS
2009年
2期
297-301
,共5页
扩散%片状固态源%磷%均匀性
擴散%片狀固態源%燐%均勻性
확산%편상고태원%린%균균성
分析了新型片状固态磷平面扩散源(PDS)的掺杂机理,并与液态POCl3源扩散进行了比较,指出可用片状固态磷PDS来替代POCl3>实现磷扩散工艺的顶沉积.基于PDS预沉积的实验结果,分析了影响方块电阻大小及其均匀性的关键因素,给出了工艺方案,并通过实际产品的电学参数测量结果验证了工艺方案的可行性,可供新型片状磷PDS在大直径硅扩散工艺中的推广使用参考.
分析瞭新型片狀固態燐平麵擴散源(PDS)的摻雜機理,併與液態POCl3源擴散進行瞭比較,指齣可用片狀固態燐PDS來替代POCl3>實現燐擴散工藝的頂沉積.基于PDS預沉積的實驗結果,分析瞭影響方塊電阻大小及其均勻性的關鍵因素,給齣瞭工藝方案,併通過實際產品的電學參數測量結果驗證瞭工藝方案的可行性,可供新型片狀燐PDS在大直徑硅擴散工藝中的推廣使用參攷.
분석료신형편상고태린평면확산원(PDS)적참잡궤리,병여액태POCl3원확산진행료비교,지출가용편상고태린PDS래체대POCl3>실현린확산공예적정침적.기우PDS예침적적실험결과,분석료영향방괴전조대소급기균균성적관건인소,급출료공예방안,병통과실제산품적전학삼수측량결과험증료공예방안적가행성,가공신형편상린PDS재대직경규확산공예중적추엄사용삼고.
