紫外光刻法制备图案化聚合物纳米管/线阵列的研究
자외광각법제비도안화취합물납미관/선진렬적연구
Fabrication of patterned polymer nanostructure arrays by photolithographic approaches
  • 万方数据
    功能材料 공능재료
    JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
    2010年 8期 1350-1352 ,共3页

    李培栋%李晓茹%宋国君%彭智%佘希林%李建江%孙瑾

    리배동%리효여%송국군%팽지%사희림%리건강%손근

    紫外光刻技术%纳米管%纳米线%AAO模板%图案化 紫外光刻技術%納米管%納米線%AAO模闆%圖案化
    자외광각기술%납미관%납미선%AAO모판%도안화
    探讨了紫外光刻技术制备图案化聚合物纳米管/线阵列的方法,研究制备过程中的各种影响因素,并找到了最佳的实验条件.采用溶液浸润法,成功制备了不同图案的聚合物纳米结构阵列.溶液浓度为6%(质量分数),得到的是聚合物纳米管阵列;溶液浓度为10.0%(质量分数),得到的是聚合物纳米线阵列.
    탐토료자외광각기술제비도안화취합물납미관/선진렬적방법,연구제비과정중적각충영향인소,병조도료최가적실험조건.채용용액침윤법,성공제비료불동도안적취합물납미결구진렬.용액농도위6%(질량분수),득도적시취합물납미관진렬;용액농도위10.0%(질량분수),득도적시취합물납미선진렬.
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