CAJ | 학술논문

采用半导体工艺的旋转涂胶法,在矩形铁氧体衬底上旋涂抗蚀剂,研究了其涂覆特性,给出了抗蚀剂的厚度与旋涂转速和旋涂时间的关系曲线及均匀性.随着旋涂转速的提高,抗蚀剂的厚度逐渐减薄；当旋涂转速大于2500r/min时,抗蚀剂厚度差小于5％.同时,随着旋涂时间的延长,抗蚀剂厚度也会减小,并最终趋向一个恒定值；当旋涂时间长于20s时.抗蚀剂厚度差小于5％.最后,分析了旋涂中心对抗蚀剂旋涂性能的影响.
채용반도체공예적선전도효법,재구형철양체츤저상선도항식제,연구료기도복특성,급출료항식제적후도여선도전속화선도시간적관계곡선급균균성.수착선도전속적제고,항식제적후도축점감박；당선도전속대우2500r/min시,항식제후도차소우5％.동시,수착선도시간적연장,항식제후도야회감소,병최종추향일개항정치；당선도시간장우20s시.항식제후도차소우5％.최후,분석료선도중심대항식제선도성능적영향.