物理化学学报
物理化學學報
물이화학학보
ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA
2010年
10期
2625-2632
,共8页
吴伟刚%杨防祖%骆明辉%田中群%周绍民
吳偉剛%楊防祖%駱明輝%田中群%週紹民
오위강%양방조%락명휘%전중군%주소민
电沉积%柠檬酸盐%铜%镀层表征%平面电感%微机电系统
電沉積%檸檬痠鹽%銅%鍍層錶徵%平麵電感%微機電繫統
전침적%저몽산염%동%도층표정%평면전감%미궤전계통
研究并讨论了在新型柠檬酸盐体系铜电沉积工艺中电镀工艺参数对镀层形貌和颗粒尺寸的影响;利用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)表征了镀层的结构和组分存在状态;并将柠檬酸盐体系电沉积铜应用于微机电系统(MEMS)加工工艺.结果表明:在6 g·L-1 Cu2+,pH=7.0-8.5,1-2 A·dm-2,45℃,搅拌条件下可得到结晶细小,表面平整的致密铜镀层;镀层为面心立方多晶结构的单质铜,不含其他杂质.利用MEMS工艺成功制得平面电感,其有效的最大品质因数(Q)为12.75,达到了设计要求.
研究併討論瞭在新型檸檬痠鹽體繫銅電沉積工藝中電鍍工藝參數對鍍層形貌和顆粒呎吋的影響;利用X射線衍射(XRD)和X射線光電子能譜(XPS)錶徵瞭鍍層的結構和組分存在狀態;併將檸檬痠鹽體繫電沉積銅應用于微機電繫統(MEMS)加工工藝.結果錶明:在6 g·L-1 Cu2+,pH=7.0-8.5,1-2 A·dm-2,45℃,攪拌條件下可得到結晶細小,錶麵平整的緻密銅鍍層;鍍層為麵心立方多晶結構的單質銅,不含其他雜質.利用MEMS工藝成功製得平麵電感,其有效的最大品質因數(Q)為12.75,達到瞭設計要求.
연구병토론료재신형저몽산염체계동전침적공예중전도공예삼수대도층형모화과립척촌적영향;이용X사선연사(XRD)화X사선광전자능보(XPS)표정료도층적결구화조분존재상태;병장저몽산염체계전침적동응용우미궤전계통(MEMS)가공공예.결과표명:재6 g·L-1 Cu2+,pH=7.0-8.5,1-2 A·dm-2,45℃,교반조건하가득도결정세소,표면평정적치밀동도층;도층위면심립방다정결구적단질동,불함기타잡질.이용MEMS공예성공제득평면전감,기유효적최대품질인수(Q)위12.75,체도료설계요구.
