表面技术
錶麵技術
표면기술
SURFACE TECHNOLOGY
2012年
1期
23-26
,共4页
SiNx薄膜%粗糙度%颗粒度%原子力显微镜
SiNx薄膜%粗糙度%顆粒度%原子力顯微鏡
SiNx박막%조조도%과립도%원자력현미경
采用射频磁控溅射法在石英玻璃和不锈钢基底上沉积SiNx薄膜,以SEM和AFM观察薄膜的表面形貌,检测粗糙度和颗粒度大小对薄膜表面形貌动态演化进行量化表征.结果表明:石英玻璃基片SiNx薄膜较不锈钢基片薄膜更为均匀致密,且颗粒更为细小；真空退火处理有利于细化SiNx薄膜颗粒,减小其表面粗糙度；在溅射功率为125～175W范围内,SiNx薄膜颗粒平均直径高达41.0 nm,其rms以及颗粒度在75W时受氩气溅射压强的影响大.
採用射頻磁控濺射法在石英玻璃和不鏽鋼基底上沉積SiNx薄膜,以SEM和AFM觀察薄膜的錶麵形貌,檢測粗糙度和顆粒度大小對薄膜錶麵形貌動態縯化進行量化錶徵.結果錶明:石英玻璃基片SiNx薄膜較不鏽鋼基片薄膜更為均勻緻密,且顆粒更為細小；真空退火處理有利于細化SiNx薄膜顆粒,減小其錶麵粗糙度；在濺射功率為125～175W範圍內,SiNx薄膜顆粒平均直徑高達41.0 nm,其rms以及顆粒度在75W時受氬氣濺射壓彊的影響大.
채용사빈자공천사법재석영파리화불수강기저상침적SiNx박막,이SEM화AFM관찰박막적표면형모,검측조조도화과립도대소대박막표면형모동태연화진행양화표정.결과표명:석영파리기편SiNx박막교불수강기편박막경위균균치밀,차과립경위세소；진공퇴화처리유리우세화SiNx박막과립,감소기표면조조도；재천사공솔위125～175W범위내,SiNx박막과립평균직경고체41.0 nm,기rms이급과립도재75W시수아기천사압강적영향대.
