中国科技信息
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중국과기신식
CHINA SCIENCE AND TECHNOLOGY INFORMATION
2011年
6期
105-106
,共2页
光热退火%多晶硅薄膜%光照因素
光熱退火%多晶硅薄膜%光照因素
광열퇴화%다정규박막%광조인소
为改进多晶硅薄膜制造工艺,研究了非晶硅薄膜的快速光热退火技术.先利用PECVD设备沉积非晶硅薄膜,然后放入快速光热退火炉中进行退火.退火前后的薄膜利用x射线衍射仪(XRD)测试其晶体结构,用电导率设备测试其暗电导率.研究表明光照时间、光照强度都对非晶硅薄膜的晶化都有很大的影响,光波频率的影响作用更大.
為改進多晶硅薄膜製造工藝,研究瞭非晶硅薄膜的快速光熱退火技術.先利用PECVD設備沉積非晶硅薄膜,然後放入快速光熱退火爐中進行退火.退火前後的薄膜利用x射線衍射儀(XRD)測試其晶體結構,用電導率設備測試其暗電導率.研究錶明光照時間、光照彊度都對非晶硅薄膜的晶化都有很大的影響,光波頻率的影響作用更大.
위개진다정규박막제조공예,연구료비정규박막적쾌속광열퇴화기술.선이용PECVD설비침적비정규박막,연후방입쾌속광열퇴화로중진행퇴화.퇴화전후적박막이용x사선연사의(XRD)측시기정체결구,용전도솔설비측시기암전도솔.연구표명광조시간、광조강도도대비정규박막적정화도유흔대적영향,광파빈솔적영향작용경대.
