科技创新导报
科技創新導報
과기창신도보
SCIENCE AND TECHNOLOGY CONSULTING HERALD
2010年
9期
2-3
,共2页
薄膜%均匀性%蒸发镀%挡板
薄膜%均勻性%蒸髮鍍%擋闆
박막%균균성%증발도%당판
薄膜技术在现代科学技术中的重要性与日俱增.薄膜均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标,它在光学、光电等器件的加工工艺中发挥着重要作用.本文介绍了在真空蒸发镀膜中改善薄膜均匀性的方法,着重分析了影响薄膜均匀性的各种因素以及改进措施.针对旋转基片的镀膜室,设计了精确的修正挡板形状,从而改善了膜厚的均匀性.
薄膜技術在現代科學技術中的重要性與日俱增.薄膜均勻性是衡量薄膜質量和鍍膜裝置性能的一項重要指標,它在光學、光電等器件的加工工藝中髮揮著重要作用.本文介紹瞭在真空蒸髮鍍膜中改善薄膜均勻性的方法,著重分析瞭影響薄膜均勻性的各種因素以及改進措施.針對鏇轉基片的鍍膜室,設計瞭精確的脩正擋闆形狀,從而改善瞭膜厚的均勻性.
박막기술재현대과학기술중적중요성여일구증.박막균균성시형량박막질량화도막장치성능적일항중요지표,타재광학、광전등기건적가공공예중발휘착중요작용.본문개소료재진공증발도막중개선박막균균성적방법,착중분석료영향박막균균성적각충인소이급개진조시.침대선전기편적도막실,설계료정학적수정당판형상,종이개선료막후적균균성.
