光电子技术
光電子技術
광전자기술
OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY
2008年
4期
250-253
,共4页
障壁%喷砂工艺%喷头阵列%喷头速率控制公式
障壁%噴砂工藝%噴頭陣列%噴頭速率控製公式
장벽%분사공예%분두진렬%분두속솔공제공식
研究和引入了彩色PDP的喷砂工艺均匀性控制方法和喷头速率控制公式.均匀性控制研究表明增加喷砂次数,同时减小步进距离,或采用喷头阵列是提高喷砂工艺均匀性的有效措施.喷头速率控制公式给出了单次喷砂和多遍喷砂及喷头阵列和单喷头的喷头移动速率之间的关系.采用多个喷头的阵列适合工业化大生产.而长条形喷头更有利于提高喷砂工艺的均匀性.
研究和引入瞭綵色PDP的噴砂工藝均勻性控製方法和噴頭速率控製公式.均勻性控製研究錶明增加噴砂次數,同時減小步進距離,或採用噴頭陣列是提高噴砂工藝均勻性的有效措施.噴頭速率控製公式給齣瞭單次噴砂和多遍噴砂及噴頭陣列和單噴頭的噴頭移動速率之間的關繫.採用多箇噴頭的陣列適閤工業化大生產.而長條形噴頭更有利于提高噴砂工藝的均勻性.
연구화인입료채색PDP적분사공예균균성공제방법화분두속솔공제공식.균균성공제연구표명증가분사차수,동시감소보진거리,혹채용분두진렬시제고분사공예균균성적유효조시.분두속솔공제공식급출료단차분사화다편분사급분두진렬화단분두적분두이동속솔지간적관계.채용다개분두적진렬괄합공업화대생산.이장조형분두경유리우제고분사공예적균균성.
