西华大学学报（自然科学版）
西華大學學報（自然科學版）
서화대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF XIHUA UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE EDITION)
2008年
1期
30-31,72
,共3页
氮化铝%中频磁控反应溅射%结构%粗糙度
氮化鋁%中頻磁控反應濺射%結構%粗糙度
담화려%중빈자공반응천사%결구%조조도
利用中频磁控反应溅射技术,以高纯Al为靶材、高纯N2为反应气体,在Si(111)衬底上成功制备出氮化铝薄膜.通过X衍射分析和原子力显微镜测试发现:提高N2分压和升高衬底温度有利于AlN(110)的形成;随着衬底温度的改变,AlN薄膜的表面粗糙度也在变化,当衬底温度为230℃时,RMS表面粗糙度最小.实验结果表明:升高衬底温度有利于制备(110)面择优取向的AlN薄膜,退火是影响氮化铝薄膜表面粗糙度的重要因素.
利用中頻磁控反應濺射技術,以高純Al為靶材、高純N2為反應氣體,在Si(111)襯底上成功製備齣氮化鋁薄膜.通過X衍射分析和原子力顯微鏡測試髮現:提高N2分壓和升高襯底溫度有利于AlN(110)的形成;隨著襯底溫度的改變,AlN薄膜的錶麵粗糙度也在變化,噹襯底溫度為230℃時,RMS錶麵粗糙度最小.實驗結果錶明:升高襯底溫度有利于製備(110)麵擇優取嚮的AlN薄膜,退火是影響氮化鋁薄膜錶麵粗糙度的重要因素.
이용중빈자공반응천사기술,이고순Al위파재、고순N2위반응기체,재Si(111)츤저상성공제비출담화려박막.통과X연사분석화원자력현미경측시발현:제고N2분압화승고츤저온도유리우AlN(110)적형성;수착츤저온도적개변,AlN박막적표면조조도야재변화,당츤저온도위230℃시,RMS표면조조도최소.실험결과표명:승고츤저온도유리우제비(110)면택우취향적AlN박막,퇴화시영향담화려박막표면조조도적중요인소.
