江苏电器
江囌電器
강소전기
JIANGSU ELECTRICAL APPARATUS
2007年
z1期
47-48,64
,共3页
特征尺寸%稳定性%工艺控制%掩模%曝光%显影%光刻胶
特徵呎吋%穩定性%工藝控製%掩模%曝光%顯影%光刻膠
특정척촌%은정성%공예공제%엄모%폭광%현영%광각효
半导体掩模特征尺寸的大小是判断掩模制造水平的重要标准.介绍了影响半导体掩模特征尺寸的因素.指出了工艺稳定性是控制掩模线条尺寸的关键.通过对曝光、显影两道关键工艺的实验,分析了曝光量、镜头焦距和显影时间是影响掩模特征尺寸稳定性的重要因素.实验表明:曝光、显影设备间隔一段时间未用需作监控测试;光刻胶厚度和掩模衬底的反射作用,会对掩模特征尺寸的稳定性产生影响,应加强对胶厚的严格监控.
半導體掩模特徵呎吋的大小是判斷掩模製造水平的重要標準.介紹瞭影響半導體掩模特徵呎吋的因素.指齣瞭工藝穩定性是控製掩模線條呎吋的關鍵.通過對曝光、顯影兩道關鍵工藝的實驗,分析瞭曝光量、鏡頭焦距和顯影時間是影響掩模特徵呎吋穩定性的重要因素.實驗錶明:曝光、顯影設備間隔一段時間未用需作鑑控測試;光刻膠厚度和掩模襯底的反射作用,會對掩模特徵呎吋的穩定性產生影響,應加彊對膠厚的嚴格鑑控.
반도체엄모특정척촌적대소시판단엄모제조수평적중요표준.개소료영향반도체엄모특정척촌적인소.지출료공예은정성시공제엄모선조척촌적관건.통과대폭광、현영량도관건공예적실험,분석료폭광량、경두초거화현영시간시영향엄모특정척촌은정성적중요인소.실험표명:폭광、현영설비간격일단시간미용수작감공측시;광각효후도화엄모츤저적반사작용,회대엄모특정척촌적은정성산생영향,응가강대효후적엄격감공.
