中国有色金属学报
中國有色金屬學報
중국유색금속학보
THE CHINESE JOURNAL OF NONFERROUS METALS
2004年
6期
961-966
,共6页
张际亮%郦剑%沃银花%王幼文%沈复初%甘正浩
張際亮%酈劍%沃銀花%王幼文%瀋複初%甘正浩
장제량%역검%옥은화%왕유문%침복초%감정호
化学气相沉积(CVD)%铝基%SiOx膜层%性能
化學氣相沉積(CVD)%鋁基%SiOx膜層%性能
화학기상침적(CVD)%려기%SiOx막층%성능
采用低温常压化学气相沉积(CVD)方法在铝基底上制备了硅氧化物陶瓷膜层.使用SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM和UV-VIS等技术分析了膜层的形貌、成分和组织结构特征,测试了膜层的孔隙率、光学和显微力学性能.结果表明:硅氧化物SiOx陶瓷膜层在铝基表面以气相反应沉积硅氧化物颗粒-颗粒嵌镶堆垛-融合长大的方式生成,大部分膜层为非晶态区域,其中包含少量局部有序区域,SiOx中的硅氧原子比为1:1.60～1:1.75,膜层疏松多孔,具有很高的紫外-可见光吸收率,膜层与基底具有很好的结合性.
採用低溫常壓化學氣相沉積(CVD)方法在鋁基底上製備瞭硅氧化物陶瓷膜層.使用SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM和UV-VIS等技術分析瞭膜層的形貌、成分和組織結構特徵,測試瞭膜層的孔隙率、光學和顯微力學性能.結果錶明:硅氧化物SiOx陶瓷膜層在鋁基錶麵以氣相反應沉積硅氧化物顆粒-顆粒嵌鑲堆垛-融閤長大的方式生成,大部分膜層為非晶態區域,其中包含少量跼部有序區域,SiOx中的硅氧原子比為1:1.60～1:1.75,膜層疏鬆多孔,具有很高的紫外-可見光吸收率,膜層與基底具有很好的結閤性.
채용저온상압화학기상침적(CVD)방법재려기저상제비료규양화물도자막층.사용SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM화UV-VIS등기술분석료막층적형모、성분화조직결구특정,측시료막층적공극솔、광학화현미역학성능.결과표명:규양화물SiOx도자막층재려기표면이기상반응침적규양화물과립-과립감양퇴타-융합장대적방식생성,대부분막층위비정태구역,기중포함소량국부유서구역,SiOx중적규양원자비위1:1.60～1:1.75,막층소송다공,구유흔고적자외-가견광흡수솔,막층여기저구유흔호적결합성.
