微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2012年
6期
406-412
,共7页
李源%雷李华%高婧%傅云霞%蔡潇雨%吴俊杰
李源%雷李華%高婧%傅雲霞%蔡瀟雨%吳俊傑
리원%뢰리화%고청%부운하%채소우%오준걸
纳米尺度标准样片%光学表征方法%跨尺度%镀膜技术%表面粗糙度
納米呎度標準樣片%光學錶徵方法%跨呎度%鍍膜技術%錶麵粗糙度
납미척도표준양편%광학표정방법%과척도%도막기술%표면조조도
重点研究了纳米尺度标准样片的光学表征方法.采用基于纳米测量机(NMM)的激光聚焦传感器(LFS)和扫描白光干涉传感器(SWLIS)分别对平面尺度的标准样片和台阶标准样片进行了测量、分析与比较.实验结果表明,利用该纳米测量机LFS对标定值为3μm的TGZ1一维栅格样片进行测量,其扩展不确定度为4,2 nm,实现了精确表征.利用SWLIS测量方法对标定值为49.217 μm的SHS8 - 50.0高台阶标准样板进行测量,测量不确定度分析结果为0.065 7 μm,实现了采用光学检测技术跨尺度对纳米尺度精密器件和结构进行表征.扩大了基于纳米测量机光学表征方法的应用范围,有利于纳米几何量量值溯源体系的建立.
重點研究瞭納米呎度標準樣片的光學錶徵方法.採用基于納米測量機(NMM)的激光聚焦傳感器(LFS)和掃描白光榦涉傳感器(SWLIS)分彆對平麵呎度的標準樣片和檯階標準樣片進行瞭測量、分析與比較.實驗結果錶明,利用該納米測量機LFS對標定值為3μm的TGZ1一維柵格樣片進行測量,其擴展不確定度為4,2 nm,實現瞭精確錶徵.利用SWLIS測量方法對標定值為49.217 μm的SHS8 - 50.0高檯階標準樣闆進行測量,測量不確定度分析結果為0.065 7 μm,實現瞭採用光學檢測技術跨呎度對納米呎度精密器件和結構進行錶徵.擴大瞭基于納米測量機光學錶徵方法的應用範圍,有利于納米幾何量量值溯源體繫的建立.
중점연구료납미척도표준양편적광학표정방법.채용기우납미측량궤(NMM)적격광취초전감기(LFS)화소묘백광간섭전감기(SWLIS)분별대평면척도적표준양편화태계표준양편진행료측량、분석여비교.실험결과표명,이용해납미측량궤LFS대표정치위3μm적TGZ1일유책격양편진행측량,기확전불학정도위4,2 nm,실현료정학표정.이용SWLIS측량방법대표정치위49.217 μm적SHS8 - 50.0고태계표준양판진행측량,측량불학정도분석결과위0.065 7 μm,실현료채용광학검측기술과척도대납미척도정밀기건화결구진행표정.확대료기우납미측량궤광학표정방법적응용범위,유리우납미궤하량량치소원체계적건립.
