四川大学学报（工程科学版）
四川大學學報（工程科學版）
사천대학학보（공정과학판）
JOURNAL OF SICHUAN UNIVERSITY(ENGINEERING SCIENCE EDITION)
2005年
3期
90-93
,共4页
何方方%许丕池%卢忠远%滕元成%廖其龙
何方方%許丕池%盧忠遠%滕元成%廖其龍
하방방%허비지%로충원%등원성%료기룡
静电自组装%SiO2%光学增透膜%热处理
靜電自組裝%SiO2%光學增透膜%熱處理
정전자조장%SiO2%광학증투막%열처리
为了进一步提高低折射率光学器件的可见光透过率,用静电自组装(ESAM)法在玻璃基片(折射率1.45)表面组装了多孔SiO2增透膜.以NH3·H2O催化和HCl与NH3·H2O分步催化分别制备了胶粒带负电荷的SiO2溶胶.用带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDDA)溶液与SiO2溶胶组装了PDDA/SiO2复合薄膜.然后进行热处理,制备了多孔SiO2薄膜.结果显示,经520 ℃热处理后,两种薄膜可见光峰值透过率增加,峰值波长由560 nm向短波移到520 nm,耐机械擦伤强度增大.NH3·H2O催化制备的薄膜透过率相对较高,峰值由98.2%达到99.2%,但耐刮伤能力相对较差.
為瞭進一步提高低摺射率光學器件的可見光透過率,用靜電自組裝(ESAM)法在玻璃基片(摺射率1.45)錶麵組裝瞭多孔SiO2增透膜.以NH3·H2O催化和HCl與NH3·H2O分步催化分彆製備瞭膠粒帶負電荷的SiO2溶膠.用帶正電荷的聚電解質聚二烯丙基二甲基氯化銨(PDDA)溶液與SiO2溶膠組裝瞭PDDA/SiO2複閤薄膜.然後進行熱處理,製備瞭多孔SiO2薄膜.結果顯示,經520 ℃熱處理後,兩種薄膜可見光峰值透過率增加,峰值波長由560 nm嚮短波移到520 nm,耐機械抆傷彊度增大.NH3·H2O催化製備的薄膜透過率相對較高,峰值由98.2%達到99.2%,但耐颳傷能力相對較差.
위료진일보제고저절사솔광학기건적가견광투과솔,용정전자조장(ESAM)법재파리기편(절사솔1.45)표면조장료다공SiO2증투막.이NH3·H2O최화화HCl여NH3·H2O분보최화분별제비료효립대부전하적SiO2용효.용대정전하적취전해질취이희병기이갑기록화안(PDDA)용액여SiO2용효조장료PDDA/SiO2복합박막.연후진행열처리,제비료다공SiO2박막.결과현시,경520 ℃열처리후,량충박막가견광봉치투과솔증가,봉치파장유560 nm향단파이도520 nm,내궤계찰상강도증대.NH3·H2O최화제비적박막투과솔상대교고,봉치유98.2%체도99.2%,단내괄상능력상대교차.
