CAJ | 학술논문

采用电化学刻蚀的方法,在自制的电解槽中制备n型＜100＞晶向多孔硅条状阵列.通过扫描电子显微镜对生成的多孔硅进行形貌观察,并对多孔硅条状阵列的生长速率与形貌进行了初步的理论分析和实验研究.实验结果表明,多孔硅的生长速率主要由临界电流密度决定,多孔硅生成初始阶段产生锥形刻痕的原因是初始电流密度比较小,加大电流密度可以消除刻痕.多孔硅分叉是由孔间距远远大于自由电荷区而产生的,而深槽中出现分立小孔的原因是反应产生的氢气阻碍了阳极氧化的进行.本实验结果对开展多孔硅进一步的研究工作具有指导意义.
채용전화학각식적방법,재자제적전해조중제비n형＜100＞정향다공규조상진렬.통과소묘전자현미경대생성적다공규진행형모관찰,병대다공규조상진렬적생장속솔여형모진행료초보적이론분석화실험연구.실험결과표명,다공규적생장속솔주요유림계전류밀도결정,다공규생성초시계단산생추형각흔적원인시초시전류밀도비교소,가대전류밀도가이소제각흔.다공규분차시유공간거원원대우자유전하구이산생적,이심조중출현분립소공적원인시반응산생적경기조애료양겁양화적진행.본실험결과대개전다공규진일보적연구공작구유지도의의.