液晶与显示
液晶與顯示
액정여현시
CHINESE JOURNAL OF LIQUID CRYSTALS AND DISPLAYS
2006年
5期
460-464
,共5页
马颖%吕庆莉%张方辉%袁桃利%张麦丽
馬穎%呂慶莉%張方輝%袁桃利%張麥麗
마영%려경리%장방휘%원도리%장맥려
ITO膜%溶胶-凝胶法%Sn掺杂%X射线衍射分析
ITO膜%溶膠-凝膠法%Sn摻雜%X射線衍射分析
ITO막%용효-응효법%Sn참잡%X사선연사분석
以铟、锡氯化物为前驱物,采用溶胶-凝胶法在玻璃基体上制备不同锡掺杂的ITO膜,在热处理温度为450 ℃条件下制备不同锡掺杂(质量分数11 %～33 %)的ITO膜,研究锡掺杂对ITO膜方阻和结构特性的影响.用四探针法测量ITO膜的方阻并对样品进行X射线衍射分析,结果表明:锡掺杂量在20 %时ITO膜的方阻最小,不同锡掺杂的ITO膜均为立方铁锰矿结构,锡掺杂会影响ITO膜晶粒尺寸、晶格常数和晶面取向等结构特性,ITO膜的晶粒较大、晶格畸变小、择优取向小时薄膜方阻较小.
以銦、錫氯化物為前驅物,採用溶膠-凝膠法在玻璃基體上製備不同錫摻雜的ITO膜,在熱處理溫度為450 ℃條件下製備不同錫摻雜(質量分數11 %～33 %)的ITO膜,研究錫摻雜對ITO膜方阻和結構特性的影響.用四探針法測量ITO膜的方阻併對樣品進行X射線衍射分析,結果錶明:錫摻雜量在20 %時ITO膜的方阻最小,不同錫摻雜的ITO膜均為立方鐵錳礦結構,錫摻雜會影響ITO膜晶粒呎吋、晶格常數和晶麵取嚮等結構特性,ITO膜的晶粒較大、晶格畸變小、擇優取嚮小時薄膜方阻較小.
이인、석록화물위전구물,채용용효-응효법재파리기체상제비불동석참잡적ITO막,재열처리온도위450 ℃조건하제비불동석참잡(질량분수11 %～33 %)적ITO막,연구석참잡대ITO막방조화결구특성적영향.용사탐침법측량ITO막적방조병대양품진행X사선연사분석,결과표명:석참잡량재20 %시ITO막적방조최소,불동석참잡적ITO막균위립방철맹광결구,석참잡회영향ITO막정립척촌、정격상수화정면취향등결구특성,ITO막적정립교대、정격기변소、택우취향소시박막방조교소.
