溅射功率对AlN薄膜结构形貌的影响
천사공솔대AlN박막결구형모적영향
Effect of Sputtering Power on Crystal Structure Morphology in AlN Thin Films
  • 万方数据
    压电与声光 압전여성광
    PIEZOELECTRICS & ACOUSTOOPTICS
    2012年 2期 276-278,282 ,共4页

    高扬%许绍俊%谌青青%孟祥钦%张彩虹%文忠%杨涛%杨成韬

    고양%허소준%심청청%맹상흠%장채홍%문충%양도%양성도

    AlN薄膜%溅射功率%结构%形貌 AlN薄膜%濺射功率%結構%形貌
    AlN박막%천사공솔%결구%형모
    采用直流反应磁控溅射法在Si(111)基片上制备了AlN薄膜,利用X线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)对不同溅射功率下制备的AlN薄膜的结构及形貌进行了分析表征.结果表明:在一定范围内,随着溅射功率的增大,薄膜厚度增加,晶粒逐渐长大,表面粗糙度也随之增大；AlN(002)择优取向改善明显,120 W时达到最佳.
    채용직류반응자공천사법재Si(111)기편상제비료AlN박막,이용X선연사(XRD)、장발사소묘전자현미경(FESEM)、원자력현미경(AFM)대불동천사공솔하제비적AlN박막적결구급형모진행료분석표정.결과표명:재일정범위내,수착천사공솔적증대,박막후도증가,정립축점장대,표면조조도야수지증대；AlN(002)택우취향개선명현,120 W시체도최가.
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