射频磁控溅射法生长MgxZn1-xO薄膜的结构和光学特性
사빈자공천사법생장MgxZn1-xO박막적결구화광학특성
Structural and optical properties of MgxZn1-xO thin films deposited by radio frequency magnetron sputtering
  • 万方数据
    物理学报 물이학보

    2005年 9期 4309-4312 ,共4页

    张锡健%马洪磊%王卿璞%马瑾%宗福建%肖洪地%计峰

    장석건%마홍뢰%왕경박%마근%종복건%초홍지%계봉

    MgxZn1-xO薄膜%射频磁控溅射%Mg含量 MgxZn1-xO薄膜%射頻磁控濺射%Mg含量
    MgxZn1-xO박막%사빈자공천사%Mg함량
    用射频磁控溅射法在80℃的衬底温度下制备出MgxZn1-xO(0≤x≤0.30)薄膜.x射线衍射(XRD)结果表明,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,没有形成任何显著的MgO分离相,MgxZn1-xO薄膜的择优取向平行于与衬底垂直的c轴;c轴晶格常数随着Mg含量的增加逐渐减小.在MgxZn1-xO薄膜的光透射谱中出现锐利的吸收边,由透射谱估算出MgxZn1-xO薄膜的带隙宽度由3.32eV(x=0)线性地增加到3.96eV(x=0.30).
    용사빈자공천사법재80℃적츤저온도하제비출MgxZn1-xO(0≤x≤0.30)박막.x사선연사(XRD)결과표명,MgxZn1-xO박막위단상륙각섬자광결구,몰유형성임하현저적MgO분리상,MgxZn1-xO박막적택우취향평행우여츤저수직적c축;c축정격상수수착Mg함량적증가축점감소.재MgxZn1-xO박막적광투사보중출현예리적흡수변,유투사보고산출MgxZn1-xO박막적대극관도유3.32eV(x=0)선성지증가도3.96eV(x=0.30).
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