表面技术
錶麵技術
표면기술
SURFACE TECHNOLOGY
2012年
3期
19-21,25
,共4页
氮氩气压比%氮化钛薄膜%织构%磁控溅射
氮氬氣壓比%氮化鈦薄膜%織構%磁控濺射
담아기압비%담화태박막%직구%자공천사
采用直流反应磁控溅射法,通过控制氮氩流量比,在Si(111)衬底上沉积了TiN薄膜,并用织构系数来量化TiN薄膜的生长取向.对TiN薄膜的织构、物相组成、形貌进行表征,分析了溅射沉积过程中氮氩流量比对TiN薄膜生长织构的影响,同时还分析了不同织构薄膜的表面及截面形貌.结果表明:氮氩流量比低于1:30时,薄膜的织构由(200)转变为(111),同时还出现了TiN061相；(111)织构的薄膜表面均匀,致密性好,粗糙度小,以氮氩流量比为1:60时所得织构系数为1.63的(111)薄膜最好.
採用直流反應磁控濺射法,通過控製氮氬流量比,在Si(111)襯底上沉積瞭TiN薄膜,併用織構繫數來量化TiN薄膜的生長取嚮.對TiN薄膜的織構、物相組成、形貌進行錶徵,分析瞭濺射沉積過程中氮氬流量比對TiN薄膜生長織構的影響,同時還分析瞭不同織構薄膜的錶麵及截麵形貌.結果錶明:氮氬流量比低于1:30時,薄膜的織構由(200)轉變為(111),同時還齣現瞭TiN061相；(111)織構的薄膜錶麵均勻,緻密性好,粗糙度小,以氮氬流量比為1:60時所得織構繫數為1.63的(111)薄膜最好.
채용직류반응자공천사법,통과공제담아류량비,재Si(111)츤저상침적료TiN박막,병용직구계수래양화TiN박막적생장취향.대TiN박막적직구、물상조성、형모진행표정,분석료천사침적과정중담아류량비대TiN박막생장직구적영향,동시환분석료불동직구박막적표면급절면형모.결과표명:담아류량비저우1:30시,박막적직구유(200)전변위(111),동시환출현료TiN061상；(111)직구적박막표면균균,치밀성호,조조도소,이담아류량비위1:60시소득직구계수위1.63적(111)박막최호.
