红外与激光工程
紅外與激光工程
홍외여격광공정
INFRARED AND LASER ENGINEERING
2010年
5期
862-866
,共5页
丁海芳%周骏%华达银%张飞雁%王振永
丁海芳%週駿%華達銀%張飛雁%王振永
정해방%주준%화체은%장비안%왕진영
罗丹明6G%DNA-CTMA%吸收光谱%交流电阻
囉丹明6G%DNA-CTMA%吸收光譜%交流電阻
라단명6G%DNA-CTMA%흡수광보%교류전조
采用旋涂法和自组装成膜法制备了不同厚度的Rh-6G/DNA-CTMA复合薄膜.通过对Rh-6G/DNA-CTMA薄膜的表面形貌、Rh-6G/DNA-CTMA样品溶液及薄膜的紫外/可见吸收光谱和透过率的测量,以及对薄膜样品交流电阻的表征,研究了薄膜的光电特性与成膜质量.实验结果表明:制备的Rh-6G/DNA-CTMA溶液在533 nm处出现吸收峰,且随着掺杂Rh-6G浓度的增加吸收增强,在其他波段无明显吸收;制备的Rh-6G/DNA-CTMA掺杂薄膜在小于280 nm范围只有很小的透射,在540 nm处有明显吸收.此外,未掺杂薄膜的交流电阻随着频率的增加而减小,而掺杂薄膜的交流电阻的变化相反,并在频率为10 MHz和55 MHz处出现明显的突变.
採用鏇塗法和自組裝成膜法製備瞭不同厚度的Rh-6G/DNA-CTMA複閤薄膜.通過對Rh-6G/DNA-CTMA薄膜的錶麵形貌、Rh-6G/DNA-CTMA樣品溶液及薄膜的紫外/可見吸收光譜和透過率的測量,以及對薄膜樣品交流電阻的錶徵,研究瞭薄膜的光電特性與成膜質量.實驗結果錶明:製備的Rh-6G/DNA-CTMA溶液在533 nm處齣現吸收峰,且隨著摻雜Rh-6G濃度的增加吸收增彊,在其他波段無明顯吸收;製備的Rh-6G/DNA-CTMA摻雜薄膜在小于280 nm範圍隻有很小的透射,在540 nm處有明顯吸收.此外,未摻雜薄膜的交流電阻隨著頻率的增加而減小,而摻雜薄膜的交流電阻的變化相反,併在頻率為10 MHz和55 MHz處齣現明顯的突變.
채용선도법화자조장성막법제비료불동후도적Rh-6G/DNA-CTMA복합박막.통과대Rh-6G/DNA-CTMA박막적표면형모、Rh-6G/DNA-CTMA양품용액급박막적자외/가견흡수광보화투과솔적측량,이급대박막양품교류전조적표정,연구료박막적광전특성여성막질량.실험결과표명:제비적Rh-6G/DNA-CTMA용액재533 nm처출현흡수봉,차수착참잡Rh-6G농도적증가흡수증강,재기타파단무명현흡수;제비적Rh-6G/DNA-CTMA참잡박막재소우280 nm범위지유흔소적투사,재540 nm처유명현흡수.차외,미참잡박막적교류전조수착빈솔적증가이감소,이참잡박막적교류전조적변화상반,병재빈솔위10 MHz화55 MHz처출현명현적돌변.
