半导体学报
半導體學報
반도체학보
CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS
2005年
z1期
65-69
,共5页
黄阀%李宝河%杨涛%翟中海%朱逢吾
黃閥%李寶河%楊濤%翟中海%硃逢吾
황벌%리보하%양도%적중해%주봉오
溅射气压%纳米多层膜%垂直磁各向异性%有效磁各向异性常数
濺射氣壓%納米多層膜%垂直磁各嚮異性%有效磁各嚮異性常數
천사기압%납미다층막%수직자각향이성%유효자각향이성상수
采用磁控溅射方法制备了性能优良的以Pt为缓冲层的(CoCr/Pt)20纳米多层膜,研究了溅射气压对(CoCr/Pt)20纳米多层膜的微结构和磁性的影响.结果表明,Ar溅射气压对(CoCr/Pt)20纳米多层膜的微结构、垂直磁各向异性和矫顽力有很大的影响.所有样品的有效各向异性常数Ke.＞0,具有垂直磁各向异性.X射线衍射结果显示,小角衍射峰很锐,样品有良好的周期性层状结构.随着Ar溅射气压增加,样品垂直膜面的矫顽力增加,但样品有效磁各向异性常数减小.原子力显微镜照片显示,随着Ar溅射气压增加,其表面平均晶粒尺寸和粗糙度均增加,这是导致多层膜的垂直矫顽力增加和有效磁各向异性常数减小的因素.
採用磁控濺射方法製備瞭性能優良的以Pt為緩遲層的(CoCr/Pt)20納米多層膜,研究瞭濺射氣壓對(CoCr/Pt)20納米多層膜的微結構和磁性的影響.結果錶明,Ar濺射氣壓對(CoCr/Pt)20納米多層膜的微結構、垂直磁各嚮異性和矯頑力有很大的影響.所有樣品的有效各嚮異性常數Ke.＞0,具有垂直磁各嚮異性.X射線衍射結果顯示,小角衍射峰很銳,樣品有良好的週期性層狀結構.隨著Ar濺射氣壓增加,樣品垂直膜麵的矯頑力增加,但樣品有效磁各嚮異性常數減小.原子力顯微鏡照片顯示,隨著Ar濺射氣壓增加,其錶麵平均晶粒呎吋和粗糙度均增加,這是導緻多層膜的垂直矯頑力增加和有效磁各嚮異性常數減小的因素.
채용자공천사방법제비료성능우량적이Pt위완충층적(CoCr/Pt)20납미다층막,연구료천사기압대(CoCr/Pt)20납미다층막적미결구화자성적영향.결과표명,Ar천사기압대(CoCr/Pt)20납미다층막적미결구、수직자각향이성화교완력유흔대적영향.소유양품적유효각향이성상수Ke.＞0,구유수직자각향이성.X사선연사결과현시,소각연사봉흔예,양품유량호적주기성층상결구.수착Ar천사기압증가,양품수직막면적교완력증가,단양품유효자각향이성상수감소.원자력현미경조편현시,수착Ar천사기압증가,기표면평균정립척촌화조조도균증가,저시도치다층막적수직교완력증가화유효자각향이성상수감소적인소.
