科学技术与工程
科學技術與工程
과학기술여공정
SCIENCE TECHNOLOGY AND ENGINEERING
2010年
24期
5985-5988
,共4页
无机非金属材料%Al2O3薄膜%溅射气压%直流磁控反应溅射%介电性能
無機非金屬材料%Al2O3薄膜%濺射氣壓%直流磁控反應濺射%介電性能
무궤비금속재료%Al2O3박막%천사기압%직류자공반응천사%개전성능
以纯铝为靶材,在不同溅射气压下采用直流磁控反应溅射方法制备了Al2O3薄膜.用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、台阶仪、绝缘电阻仪和精密阻抗分析仪等分析了薄膜的表面形貌、化学成分、结构、薄膜厚度和电学性能.结果表明,随着溅射压力增大,薄膜的颗粒尺寸和厚度减小,组织细密;薄膜的化学成分主要为Al、O元素,铝氧原子比接近2:3,在250℃的低温下,溅射态的Al2O3薄膜均为非晶结构,溅射压力对Al2O3薄膜的结构和化学成分影响不明显;溅射压力为1.0 Pa时的薄膜,其电阻和电阻率较大,介电性能相对较好.
以純鋁為靶材,在不同濺射氣壓下採用直流磁控反應濺射方法製備瞭Al2O3薄膜.用掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDS)、X射線衍射儀(XRD)、檯階儀、絕緣電阻儀和精密阻抗分析儀等分析瞭薄膜的錶麵形貌、化學成分、結構、薄膜厚度和電學性能.結果錶明,隨著濺射壓力增大,薄膜的顆粒呎吋和厚度減小,組織細密;薄膜的化學成分主要為Al、O元素,鋁氧原子比接近2:3,在250℃的低溫下,濺射態的Al2O3薄膜均為非晶結構,濺射壓力對Al2O3薄膜的結構和化學成分影響不明顯;濺射壓力為1.0 Pa時的薄膜,其電阻和電阻率較大,介電性能相對較好.
이순려위파재,재불동천사기압하채용직류자공반응천사방법제비료Al2O3박막.용소묘전경(SEM)、능보의(EDS)、X사선연사의(XRD)、태계의、절연전조의화정밀조항분석의등분석료박막적표면형모、화학성분、결구、박막후도화전학성능.결과표명,수착천사압력증대,박막적과립척촌화후도감소,조직세밀;박막적화학성분주요위Al、O원소,려양원자비접근2:3,재250℃적저온하,천사태적Al2O3박막균위비정결구,천사압력대Al2O3박막적결구화화학성분영향불명현;천사압력위1.0 Pa시적박막,기전조화전조솔교대,개전성능상대교호.
