安徽工业大学学报(自然科学版)
安徽工業大學學報(自然科學版)
안휘공업대학학보(자연과학판)
JOURNAL OF ANHUI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
2004年
1期
7-10,22
,共5页
激光化学沉积%薄膜%性能%工艺参数
激光化學沉積%薄膜%性能%工藝參數
격광화학침적%박막%성능%공예삼수
综述了LCVD制备薄膜的原理和特性,国内外对LCVD的研究应用情况及目前最新的研究方向.阐明了LCVD技术在制备薄膜过程中的生长低温化及高精度膜厚的可控制性能等特点.分析了激光功率、反应室气压及基材预处理等参数对薄膜质量的影响.
綜述瞭LCVD製備薄膜的原理和特性,國內外對LCVD的研究應用情況及目前最新的研究方嚮.闡明瞭LCVD技術在製備薄膜過程中的生長低溫化及高精度膜厚的可控製性能等特點.分析瞭激光功率、反應室氣壓及基材預處理等參數對薄膜質量的影響.
종술료LCVD제비박막적원리화특성,국내외대LCVD적연구응용정황급목전최신적연구방향.천명료LCVD기술재제비박막과정중적생장저온화급고정도막후적가공제성능등특점.분석료격광공솔、반응실기압급기재예처리등삼수대박막질량적영향.
