化工进展
化工進展
화공진전
CHEMICAL INDUSTRY AND ENGINEERING PROGRESS
2005年
6期
632-634
,共3页
巩小敏%宋永吉%梁克民%陈霭璠
鞏小敏%宋永吉%樑剋民%陳靄璠
공소민%송영길%량극민%진애번
CH4催化燃烧%SnO2%In2O3%复合催化剂
CH4催化燃燒%SnO2%In2O3%複閤催化劑
CH4최화연소%SnO2%In2O3%복합최화제
以InCl3·4H2O及SnCl4·5H2O为原料,用共沉淀法制备超细In2O3SnO2复合催化剂,用XRD、TEM、TPD等对所制备的样品催化剂进行表征.XRD、TEM测定结果表明,所制备的样品粒径20～30 nm,分布窄,用TPD测定了样品对O2及CH4的脱附情况.CH4的催化燃烧试验表明,所制备的In2O3-SnO2复合催化剂具有良好的催化反应活性.
以InCl3·4H2O及SnCl4·5H2O為原料,用共沉澱法製備超細In2O3SnO2複閤催化劑,用XRD、TEM、TPD等對所製備的樣品催化劑進行錶徵.XRD、TEM測定結果錶明,所製備的樣品粒徑20～30 nm,分佈窄,用TPD測定瞭樣品對O2及CH4的脫附情況.CH4的催化燃燒試驗錶明,所製備的In2O3-SnO2複閤催化劑具有良好的催化反應活性.
이InCl3·4H2O급SnCl4·5H2O위원료,용공침정법제비초세In2O3SnO2복합최화제,용XRD、TEM、TPD등대소제비적양품최화제진행표정.XRD、TEM측정결과표명,소제비적양품립경20～30 nm,분포착,용TPD측정료양품대O2급CH4적탈부정황.CH4적최화연소시험표명,소제비적In2O3-SnO2복합최화제구유량호적최화반응활성.
