科学技术与工程
科學技術與工程
과학기술여공정
SCIENCE TECHNOLOGY AND ENGINEERING
2012年
10期
2306-2309
,共4页
纳米线阵列%减反射%近红外
納米線陣列%減反射%近紅外
납미선진렬%감반사%근홍외
采用金属催化化学腐蚀方法在单晶硅表面制备了有序的纳米线阵列.研究了纳米线长度与腐蚀时间之间的关系.发现纳米线长度随着腐蚀时间的增加而增大.测试了所制备的具有纳米线阵列的硅表面在近红外1 000 nm～2 500 nm范围内的减反射性能.测试结果表明,与未处理的光滑硅表面相比,具有纳米线阵列的表面的反射率大辐降低；并随着纳米线长度的增加,反射率减小.
採用金屬催化化學腐蝕方法在單晶硅錶麵製備瞭有序的納米線陣列.研究瞭納米線長度與腐蝕時間之間的關繫.髮現納米線長度隨著腐蝕時間的增加而增大.測試瞭所製備的具有納米線陣列的硅錶麵在近紅外1 000 nm～2 500 nm範圍內的減反射性能.測試結果錶明,與未處理的光滑硅錶麵相比,具有納米線陣列的錶麵的反射率大輻降低；併隨著納米線長度的增加,反射率減小.
채용금속최화화학부식방법재단정규표면제비료유서적납미선진렬.연구료납미선장도여부식시간지간적관계.발현납미선장도수착부식시간적증가이증대.측시료소제비적구유납미선진렬적규표면재근홍외1 000 nm～2 500 nm범위내적감반사성능.측시결과표명,여미처리적광활규표면상비,구유납미선진렬적표면적반사솔대복강저；병수착납미선장도적증가,반사솔감소.
