微细加工技术
微細加工技術
미세가공기술
MICROFABRICATION TECHNOLOGY
2008年
3期
30-34,59
,共6页
毛宏英%周白杨%雷德辉%汤乐明%邓光华
毛宏英%週白楊%雷德輝%湯樂明%鄧光華
모굉영%주백양%뢰덕휘%탕악명%산광화
离子束溅射沉积%TbDy-Fe膜%复合%耦合%磁致伸缩
離子束濺射沉積%TbDy-Fe膜%複閤%耦閤%磁緻伸縮
리자속천사침적%TbDy-Fe막%복합%우합%자치신축
为了提高TbDv-Fe膜的低场磁敏性,采用离子束溅射沉积(IBSD)法制备TbDy-Fe超磁致伸缩薄膜,分别研究了纯Fe膜与TbDy-Fe单层膜、TbDy-Fe/Fe耦合多层膜的复合及磁场下溅射沉积对TbDy-Fe膜磁致伸缩性能的影响;用振动样品磁强计(VSM)测试薄膜磁滞回线,用电容位移测量仪测试薄膜悬臂梁自由端偏转量,并计算出磁致伸缩系数λ.结果表明,由IBSD法制备的纯Fe膜、TbDy-Fe单层膜、TbDy-Fe/Fe复合膜的易磁化轴均平行于膜面,TbDy-Fe/Fe复合膜在低场下的磁化强度与磁导率均高于TbDy-Fe单层膜(在100 kA/m时,TbDy-Fe/Fe复合膜的磁化强度比TbDy-Fe单层膜高173%).纯Fe膜分别与TbDy-Fe单层膜、TbDy-Fe/Fe耦合多层膜进行复合均可提高薄膜磁致伸缩性能;磁场下溅射沉积所得180 nm纯Fe膜+640 nmTbDy-Fe/Fe耦合多层膜,由于在其膜面内短轴方向产生感生磁各向异性,从而使磁致伸缩性能得到进一步的提高,在150 kA/m的磁场下它的λ值可达到650×10-6.
為瞭提高TbDv-Fe膜的低場磁敏性,採用離子束濺射沉積(IBSD)法製備TbDy-Fe超磁緻伸縮薄膜,分彆研究瞭純Fe膜與TbDy-Fe單層膜、TbDy-Fe/Fe耦閤多層膜的複閤及磁場下濺射沉積對TbDy-Fe膜磁緻伸縮性能的影響;用振動樣品磁彊計(VSM)測試薄膜磁滯迴線,用電容位移測量儀測試薄膜懸臂樑自由耑偏轉量,併計算齣磁緻伸縮繫數λ.結果錶明,由IBSD法製備的純Fe膜、TbDy-Fe單層膜、TbDy-Fe/Fe複閤膜的易磁化軸均平行于膜麵,TbDy-Fe/Fe複閤膜在低場下的磁化彊度與磁導率均高于TbDy-Fe單層膜(在100 kA/m時,TbDy-Fe/Fe複閤膜的磁化彊度比TbDy-Fe單層膜高173%).純Fe膜分彆與TbDy-Fe單層膜、TbDy-Fe/Fe耦閤多層膜進行複閤均可提高薄膜磁緻伸縮性能;磁場下濺射沉積所得180 nm純Fe膜+640 nmTbDy-Fe/Fe耦閤多層膜,由于在其膜麵內短軸方嚮產生感生磁各嚮異性,從而使磁緻伸縮性能得到進一步的提高,在150 kA/m的磁場下它的λ值可達到650×10-6.
위료제고TbDv-Fe막적저장자민성,채용리자속천사침적(IBSD)법제비TbDy-Fe초자치신축박막,분별연구료순Fe막여TbDy-Fe단층막、TbDy-Fe/Fe우합다층막적복합급자장하천사침적대TbDy-Fe막자치신축성능적영향;용진동양품자강계(VSM)측시박막자체회선,용전용위이측량의측시박막현비량자유단편전량,병계산출자치신축계수λ.결과표명,유IBSD법제비적순Fe막、TbDy-Fe단층막、TbDy-Fe/Fe복합막적역자화축균평행우막면,TbDy-Fe/Fe복합막재저장하적자화강도여자도솔균고우TbDy-Fe단층막(재100 kA/m시,TbDy-Fe/Fe복합막적자화강도비TbDy-Fe단층막고173%).순Fe막분별여TbDy-Fe단층막、TbDy-Fe/Fe우합다층막진행복합균가제고박막자치신축성능;자장하천사침적소득180 nm순Fe막+640 nmTbDy-Fe/Fe우합다층막,유우재기막면내단축방향산생감생자각향이성,종이사자치신축성능득도진일보적제고,재150 kA/m적자장하타적λ치가체도650×10-6.
