物理学报
物理學報
물이학보
2001年
7期
1324-1328
,共5页
廖梅勇%秦复光%柴春林%刘志凯%杨少延%姚振钰%王占国
廖梅勇%秦複光%柴春林%劉誌凱%楊少延%姚振鈺%王佔國
료매용%진복광%시춘림%류지개%양소연%요진옥%왕점국
非晶碳%表面形貌%质量分离低能离子束
非晶碳%錶麵形貌%質量分離低能離子束
비정탄%표면형모%질량분리저능리자속
利用质量分离的低能离子束沉积技术,得到了非晶碳膜.所用离子能量为50-200eV,衬底温度从室温到800℃.在沉积的能量范围内,衬底为室温时薄膜为类金刚石,表面非常光滑;而600℃下薄膜主要是石墨成分,表面粗糙.沉积能量大于140eV,800℃时薄膜表面分立着高度取向的、垂直衬底表面、相互平行的开口碳管.用高分辨电子显微镜看到了石墨平面的垂直择优取向,离子的浅注入和应力是这种优先取向的主要机理.
利用質量分離的低能離子束沉積技術,得到瞭非晶碳膜.所用離子能量為50-200eV,襯底溫度從室溫到800℃.在沉積的能量範圍內,襯底為室溫時薄膜為類金剛石,錶麵非常光滑;而600℃下薄膜主要是石墨成分,錶麵粗糙.沉積能量大于140eV,800℃時薄膜錶麵分立著高度取嚮的、垂直襯底錶麵、相互平行的開口碳管.用高分辨電子顯微鏡看到瞭石墨平麵的垂直擇優取嚮,離子的淺註入和應力是這種優先取嚮的主要機理.
이용질량분리적저능리자속침적기술,득도료비정탄막.소용리자능량위50-200eV,츤저온도종실온도800℃.재침적적능량범위내,츤저위실온시박막위류금강석,표면비상광활;이600℃하박막주요시석묵성분,표면조조.침적능량대우140eV,800℃시박막표면분립착고도취향적、수직츤저표면、상호평행적개구탄관.용고분변전자현미경간도료석묵평면적수직택우취향,리자적천주입화응력시저충우선취향적주요궤리.
