材料导报
材料導報
재료도보
MATERIALS REVIEW
2008年
1期
121-123
,共3页
SnO2:F导电薄膜%喷雾热分解法%性能
SnO2:F導電薄膜%噴霧熱分解法%性能
SnO2:F도전박막%분무열분해법%성능
采用喷雾热分解(Spray pyrolysis)方法,以NH4F、SnCl2·2H2O为原料,对反应液配方进行了优化,在普通玻璃衬底上制备出了光电性能优良的掺F二氧化锡透明导电薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV/VIS)对薄膜的结构、形貌、光学、电学特征进行了表征和分析.结果表明:在衬底温度为500℃, NH4F/SnCl2·2H2O的质量百分比为20%,喷涂时间为15s时掺F二氧化锡薄膜的方块电阻最低达到6.2Ω/□,可见光透射率为86.95%,且薄膜晶粒均匀,表面形貌平整致密.
採用噴霧熱分解(Spray pyrolysis)方法,以NH4F、SnCl2·2H2O為原料,對反應液配方進行瞭優化,在普通玻璃襯底上製備齣瞭光電性能優良的摻F二氧化錫透明導電薄膜.採用X射線衍射儀(XRD)、掃描電鏡(SEM)、紫外-可見分光光度計(UV/VIS)對薄膜的結構、形貌、光學、電學特徵進行瞭錶徵和分析.結果錶明:在襯底溫度為500℃, NH4F/SnCl2·2H2O的質量百分比為20%,噴塗時間為15s時摻F二氧化錫薄膜的方塊電阻最低達到6.2Ω/□,可見光透射率為86.95%,且薄膜晶粒均勻,錶麵形貌平整緻密.
채용분무열분해(Spray pyrolysis)방법,이NH4F、SnCl2·2H2O위원료,대반응액배방진행료우화,재보통파리츤저상제비출료광전성능우량적참F이양화석투명도전박막.채용X사선연사의(XRD)、소묘전경(SEM)、자외-가견분광광도계(UV/VIS)대박막적결구、형모、광학、전학특정진행료표정화분석.결과표명:재츤저온도위500℃, NH4F/SnCl2·2H2O적질량백분비위20%,분도시간위15s시참F이양화석박막적방괴전조최저체도6.2Ω/□,가견광투사솔위86.95%,차박막정립균균,표면형모평정치밀.
