信息记录材料
信息記錄材料
신식기록재료
INFORMATION RECORDING MATERIALS
2010年
1期
47-49
,共3页
射频磁控溅射%SnITbFeCo%矫顽力
射頻磁控濺射%SnITbFeCo%矯頑力
사빈자공천사%SnITbFeCo%교완력
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了TbFeCo系列非晶垂直磁化膜,研究了溅射工艺对SmTbFeCo薄膜性能的影响.结果表明:溅射气压为0.5Pa、溅射功率为75w、厚度在100nm条件下所溅射形成的smTbFeCo薄膜磁性最优.
採用射頻磁控濺射法在玻璃基片上成功製得瞭TbFeCo繫列非晶垂直磁化膜,研究瞭濺射工藝對SmTbFeCo薄膜性能的影響.結果錶明:濺射氣壓為0.5Pa、濺射功率為75w、厚度在100nm條件下所濺射形成的smTbFeCo薄膜磁性最優.
채용사빈자공천사법재파리기편상성공제득료TbFeCo계렬비정수직자화막,연구료천사공예대SmTbFeCo박막성능적영향.결과표명:천사기압위0.5Pa、천사공솔위75w、후도재100nm조건하소천사형성적smTbFeCo박막자성최우.