半导体技术
半導體技術
반도체기술
SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY
2009年
5期
401-404
,共4页
张海明%王新蒙%胡国锋%李育洁%李晓洁%高波%朱彦君
張海明%王新矇%鬍國鋒%李育潔%李曉潔%高波%硃彥君
장해명%왕신몽%호국봉%리육길%리효길%고파%주언군
阳极氧化铝模板%应用研究%进展%一维材料%易脆性%阻挡层
暘極氧化鋁模闆%應用研究%進展%一維材料%易脆性%阻擋層
양겁양화려모판%응용연구%진전%일유재료%역취성%조당층
论述了AAO模板以其独特的六角有序纳米结构,组装1-D材料取得的成功,指出目前关注重点为AAO的应用研究.指出由于AAO模板易脆、存在绝缘阻挡层等缺点,其应用研究进展不大.阐述了为克服上述困难,将AAO模板转移到Si衬底或玻璃衬底上的可行性.分析表明,目前AAO模板的应用研究主要集中在发光器件和存储器件上,其他研究报导还很少.对近年来人们利用AAO模板开展应用研究方面的进展做了回顾和评述以其进一步加快AAO模板的应用.
論述瞭AAO模闆以其獨特的六角有序納米結構,組裝1-D材料取得的成功,指齣目前關註重點為AAO的應用研究.指齣由于AAO模闆易脆、存在絕緣阻擋層等缺點,其應用研究進展不大.闡述瞭為剋服上述睏難,將AAO模闆轉移到Si襯底或玻璃襯底上的可行性.分析錶明,目前AAO模闆的應用研究主要集中在髮光器件和存儲器件上,其他研究報導還很少.對近年來人們利用AAO模闆開展應用研究方麵的進展做瞭迴顧和評述以其進一步加快AAO模闆的應用.
논술료AAO모판이기독특적륙각유서납미결구,조장1-D재료취득적성공,지출목전관주중점위AAO적응용연구.지출유우AAO모판역취、존재절연조당층등결점,기응용연구진전불대.천술료위극복상술곤난,장AAO모판전이도Si츤저혹파리츤저상적가행성.분석표명,목전AAO모판적응용연구주요집중재발광기건화존저기건상,기타연구보도환흔소.대근년래인문이용AAO모판개전응용연구방면적진전주료회고화평술이기진일보가쾌AAO모판적응용.
