长春理工大学学报（自然科学版）
長春理工大學學報（自然科學版）
장춘리공대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF CHANGCHUN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY(NATURAL SCIENCE EDITION)
2009年
3期
407-409
,共3页
王新%向嵘%陈立%姜德龙%李野%王国政
王新%嚮嶸%陳立%薑德龍%李野%王國政
왕신%향영%진립%강덕룡%리야%왕국정
ZnO薄膜%AI2O3缓冲层%X射线衍射%发光光谱%吸收光谱
ZnO薄膜%AI2O3緩遲層%X射線衍射%髮光光譜%吸收光譜
ZnO박막%AI2O3완충층%X사선연사%발광광보%흡수광보
采用反应磁控溅射的方法在石英衬底上制备了一层AI2O3薄膜,并将其作为后续ZnO薄膜生长的缓冲层.然后,采用反应磁控溅射的方法在AI2O3缓冲层上制备了ZnO薄膜.对比研究了引入Al2O3缓冲层前后,ZnO薄膜的结构和光学特性.通过引入Al2O3缓冲层,发现ZnO薄膜样品的(002)方向X射线衍射峰的半峰宽(FWHM)明显减小,光致发光谱中与缺陷相关的可见发光峰强度明显减弱,吸收光谱中的吸收边变得更加陡峭.这些结果表明引入Al2Q3缓冲层后,ZnO薄膜的结构和光学特性得到了很大改善,为制备高质量ZnO薄膜提供了参考.
採用反應磁控濺射的方法在石英襯底上製備瞭一層AI2O3薄膜,併將其作為後續ZnO薄膜生長的緩遲層.然後,採用反應磁控濺射的方法在AI2O3緩遲層上製備瞭ZnO薄膜.對比研究瞭引入Al2O3緩遲層前後,ZnO薄膜的結構和光學特性.通過引入Al2O3緩遲層,髮現ZnO薄膜樣品的(002)方嚮X射線衍射峰的半峰寬(FWHM)明顯減小,光緻髮光譜中與缺陷相關的可見髮光峰彊度明顯減弱,吸收光譜中的吸收邊變得更加陡峭.這些結果錶明引入Al2Q3緩遲層後,ZnO薄膜的結構和光學特性得到瞭很大改善,為製備高質量ZnO薄膜提供瞭參攷.
채용반응자공천사적방법재석영츤저상제비료일층AI2O3박막,병장기작위후속ZnO박막생장적완충층.연후,채용반응자공천사적방법재AI2O3완충층상제비료ZnO박막.대비연구료인입Al2O3완충층전후,ZnO박막적결구화광학특성.통과인입Al2O3완충층,발현ZnO박막양품적(002)방향X사선연사봉적반봉관(FWHM)명현감소,광치발광보중여결함상관적가견발광봉강도명현감약,흡수광보중적흡수변변득경가두초.저사결과표명인입Al2Q3완충층후,ZnO박막적결구화광학특성득도료흔대개선,위제비고질량ZnO박막제공료삼고.
