激光与光电子学进展
激光與光電子學進展
격광여광전자학진전
LASER & OPTOELECTRONICS PROGRESS
2008年
1期
57-64
,共8页
真空紫外%金属Al膜%氧化物%氟化物
真空紫外%金屬Al膜%氧化物%氟化物
진공자외%금속Al막%양화물%불화물
概述了真空紫外(VUV)波段光学薄膜及薄膜材料的研究进展,金属Al膜因到短至80nm还能提供较高的反射率而得到普遍关注,在高真空和30 nm/s左右沉积速率下沉积了保护层的金属Al膜在157 nm处反射率可达90%.介质氧化物薄膜机械应力小,环境稳定性比氟化物薄膜好,在190 nm以上波段应用较广泛,但在180 nm以下波段吸收大大增加而应由氟化物薄膜取代.氟化物薄膜带宽大、吸收系数小,沉积了致密SiO2保护层的氟化物高反膜,在中心波长180 nm处可得到接近99%的反射率,而且膜系的稳定性和抗激光损伤也大大提高.氟化物减反膜在157 nm处可得到0.1%以下的反射率;到目前为止氟化物薄膜最好的沉积工艺是电阻热蒸发.
概述瞭真空紫外(VUV)波段光學薄膜及薄膜材料的研究進展,金屬Al膜因到短至80nm還能提供較高的反射率而得到普遍關註,在高真空和30 nm/s左右沉積速率下沉積瞭保護層的金屬Al膜在157 nm處反射率可達90%.介質氧化物薄膜機械應力小,環境穩定性比氟化物薄膜好,在190 nm以上波段應用較廣汎,但在180 nm以下波段吸收大大增加而應由氟化物薄膜取代.氟化物薄膜帶寬大、吸收繫數小,沉積瞭緻密SiO2保護層的氟化物高反膜,在中心波長180 nm處可得到接近99%的反射率,而且膜繫的穩定性和抗激光損傷也大大提高.氟化物減反膜在157 nm處可得到0.1%以下的反射率;到目前為止氟化物薄膜最好的沉積工藝是電阻熱蒸髮.
개술료진공자외(VUV)파단광학박막급박막재료적연구진전,금속Al막인도단지80nm환능제공교고적반사솔이득도보편관주,재고진공화30 nm/s좌우침적속솔하침적료보호층적금속Al막재157 nm처반사솔가체90%.개질양화물박막궤계응력소,배경은정성비불화물박막호,재190 nm이상파단응용교엄범,단재180 nm이하파단흡수대대증가이응유불화물박막취대.불화물박막대관대、흡수계수소,침적료치밀SiO2보호층적불화물고반막,재중심파장180 nm처가득도접근99%적반사솔,이차막계적은정성화항격광손상야대대제고.불화물감반막재157 nm처가득도0.1%이하적반사솔;도목전위지불화물박막최호적침적공예시전조열증발.
