稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2011年
4期
733-736
,共4页
刘天伟%王小英%江帆%朱生发%唐凯%魏强
劉天偉%王小英%江帆%硃生髮%唐凱%魏彊
류천위%왕소영%강범%주생발%당개%위강
U%Ti-Nb-Ni%非晶薄膜%结构%电化学极化
U%Ti-Nb-Ni%非晶薄膜%結構%電化學極化
U%Ti-Nb-Ni%비정박막%결구%전화학겁화
利用非平衡多靶溅射沉积法在不同脉冲偏压、沉积速率下制备了Ti-Nb-Ni薄膜,用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和电化学极化试验分析了薄膜结构和抗腐蚀性能.结果表明,在0V偏压下,当Ti:Nb:Ni沉积速率比为3:1.5:1.5时,为晶化薄膜:而当Ti沉积速率的控制电流在5~7 A范围内,Nb、Ni沉积速率不变时,为非晶薄膜.对于沉积速率比为5:1.5:1.5的薄膜,当偏压从0 V增加到-2000 V时,薄膜组织的演化过程为非晶-弥散小晶粒-致密小晶粒-大颗粒晶粒.电化学极化试验表明,利用非晶化和晶化复合工艺获得的Ti-Nb-Ni薄膜具有更好的耐腐蚀性能.
利用非平衡多靶濺射沉積法在不同脈遲偏壓、沉積速率下製備瞭Ti-Nb-Ni薄膜,用X射線衍射(XRD)、掃描電鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)和電化學極化試驗分析瞭薄膜結構和抗腐蝕性能.結果錶明,在0V偏壓下,噹Ti:Nb:Ni沉積速率比為3:1.5:1.5時,為晶化薄膜:而噹Ti沉積速率的控製電流在5~7 A範圍內,Nb、Ni沉積速率不變時,為非晶薄膜.對于沉積速率比為5:1.5:1.5的薄膜,噹偏壓從0 V增加到-2000 V時,薄膜組織的縯化過程為非晶-瀰散小晶粒-緻密小晶粒-大顆粒晶粒.電化學極化試驗錶明,利用非晶化和晶化複閤工藝穫得的Ti-Nb-Ni薄膜具有更好的耐腐蝕性能.
이용비평형다파천사침적법재불동맥충편압、침적속솔하제비료Ti-Nb-Ni박막,용X사선연사(XRD)、소묘전경(SEM)、투사전자현미경(TEM)화전화학겁화시험분석료박막결구화항부식성능.결과표명,재0V편압하,당Ti:Nb:Ni침적속솔비위3:1.5:1.5시,위정화박막:이당Ti침적속솔적공제전류재5~7 A범위내,Nb、Ni침적속솔불변시,위비정박막.대우침적속솔비위5:1.5:1.5적박막,당편압종0 V증가도-2000 V시,박막조직적연화과정위비정-미산소정립-치밀소정립-대과립정립.전화학겁화시험표명,이용비정화화정화복합공예획득적Ti-Nb-Ni박막구유경호적내부식성능.
