稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2008年
z2期
76-79
,共4页
沈军%欧阳玲%林雪晶%谢志勇%罗爱云
瀋軍%歐暘玲%林雪晶%謝誌勇%囉愛雲
침군%구양령%림설정%사지용%라애운
介孔薄膜%溶胶-凝胶%低折射率%低介电常数
介孔薄膜%溶膠-凝膠%低摺射率%低介電常數
개공박막%용효-응효%저절사솔%저개전상수
mesoporous films%sol-gel%low dielectric constant%low refractive index
采用溶胶-凝胶技术,蒸发诱导自组装法(EISA)工艺制备了二氧化硅透明有序介孔薄膜.以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为模板剂,正硅酸乙酯(TEOS)为硅源前驱体,基片采用双面抛光的硅片,利用提拉法制备薄膜.经过表面修饰剂六甲基二硅胺烷(HMDS)修饰后,薄膜具有疏水性能,而且薄膜的二氧化硅骨架结构更稳定.由椭偏仪测得热处理后的薄膜的折射率低至1.18,而薄膜的介电常数为2.14.
採用溶膠-凝膠技術,蒸髮誘導自組裝法(EISA)工藝製備瞭二氧化硅透明有序介孔薄膜.以十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)作為模闆劑,正硅痠乙酯(TEOS)為硅源前驅體,基片採用雙麵拋光的硅片,利用提拉法製備薄膜.經過錶麵脩飾劑六甲基二硅胺烷(HMDS)脩飾後,薄膜具有疏水性能,而且薄膜的二氧化硅骨架結構更穩定.由橢偏儀測得熱處理後的薄膜的摺射率低至1.18,而薄膜的介電常數為2.14.
채용용효-응효기술,증발유도자조장법(EISA)공예제비료이양화규투명유서개공박막.이십륙완기삼갑기추화안(CTAB)작위모판제,정규산을지(TEOS)위규원전구체,기편채용쌍면포광적규편,이용제랍법제비박막.경과표면수식제륙갑기이규알완(HMDS)수식후,박막구유소수성능,이차박막적이양화규골가결구경은정.유타편의측득열처리후적박막적절사솔저지1.18,이박막적개전상수위2.14.
Mesopomus silica films were successfully prepared through sol-gel process with evaporation-induced self-assembly.Tetraethoxysilane(TEOS)was used as silica precursor and Cetyltrimethylammonium bromide(CTAB)as the templating agent.The films were deposited on the silicon wafer or glass substrate using a dip-coating method.The refractive index(k)of the mesoporous films was 1.18,while the dielectric constant(n)was 2.14.
