科学通报
科學通報
과학통보
CHINESE SCIENCE BULLETIN
2004年
20期
2045-2048
,共4页
朱达%马忠元%梅嘉欣%韩培高%黄信凡%陈坤基
硃達%馬忠元%梅嘉訢%韓培高%黃信凡%陳坤基
주체%마충원%매가흔%한배고%황신범%진곤기
a-Si:H/SiO2多层膜%等离子体氧化%蓝光发射%蓝移%量子限制
a-Si:H/SiO2多層膜%等離子體氧化%藍光髮射%藍移%量子限製
a-Si:H/SiO2다층막%등리자체양화%람광발사%람이%양자한제
在等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统中, 采用a-Si:H层淀积与原位等离子体氧化相结合逐层生长的方法成功制备了一个系列的不同a-Si:H子层厚度的含氢a-Si:H/SiO2多层膜, 在室温下用肉眼观察到了较强的光致蓝光发射, 与此同时还观察到其发光峰峰位和吸收边随a-Si:H子层厚度的减小而逐渐蓝移. 对a-Si:H/SiO2多层膜的蓝光发射机制及氢的作用进行了分析和讨论.
在等離子體增彊化學氣相澱積(PECVD)繫統中, 採用a-Si:H層澱積與原位等離子體氧化相結閤逐層生長的方法成功製備瞭一箇繫列的不同a-Si:H子層厚度的含氫a-Si:H/SiO2多層膜, 在室溫下用肉眼觀察到瞭較彊的光緻藍光髮射, 與此同時還觀察到其髮光峰峰位和吸收邊隨a-Si:H子層厚度的減小而逐漸藍移. 對a-Si:H/SiO2多層膜的藍光髮射機製及氫的作用進行瞭分析和討論.
재등리자체증강화학기상정적(PECVD)계통중, 채용a-Si:H층정적여원위등리자체양화상결합축층생장적방법성공제비료일개계렬적불동a-Si:H자층후도적함경a-Si:H/SiO2다층막, 재실온하용육안관찰도료교강적광치람광발사, 여차동시환관찰도기발광봉봉위화흡수변수a-Si:H자층후도적감소이축점람이. 대a-Si:H/SiO2다층막적람광발사궤제급경적작용진행료분석화토론.
