光学仪器
光學儀器
광학의기
OPTICAL INSTRUMENTS
2007年
1期
71-74
,共4页
孙淼%时尧成%戴道锌%刘柳
孫淼%時堯成%戴道鋅%劉柳
손묘%시요성%대도자%류류
Si基SiO2光波导%ICP刻蚀%表面粗糙度
Si基SiO2光波導%ICP刻蝕%錶麵粗糙度
Si기SiO2광파도%ICP각식%표면조조도
波导表面粗糙度引起的散射损耗是SiO2光波导传输损耗的主要来源,通过降低表面粗糙度可以获得低损耗SiO2光波导.通过优化ICP干法刻蚀工艺的各参数(如温度、压强、气体流量、感应/偏置功率等)获得了低粗糙度的SiO2光波导,并采用SEM和AFM对刻蚀表面粗糙度进行了定量测试.采用优化刻蚀工艺可将表面粗糙度从35.4nm降低到3.6nm,波导传输损耗约为0.1dB/cm.
波導錶麵粗糙度引起的散射損耗是SiO2光波導傳輸損耗的主要來源,通過降低錶麵粗糙度可以穫得低損耗SiO2光波導.通過優化ICP榦法刻蝕工藝的各參數(如溫度、壓彊、氣體流量、感應/偏置功率等)穫得瞭低粗糙度的SiO2光波導,併採用SEM和AFM對刻蝕錶麵粗糙度進行瞭定量測試.採用優化刻蝕工藝可將錶麵粗糙度從35.4nm降低到3.6nm,波導傳輸損耗約為0.1dB/cm.
파도표면조조도인기적산사손모시SiO2광파도전수손모적주요래원,통과강저표면조조도가이획득저손모SiO2광파도.통과우화ICP간법각식공예적각삼수(여온도、압강、기체류량、감응/편치공솔등)획득료저조조도적SiO2광파도,병채용SEM화AFM대각식표면조조도진행료정량측시.채용우화각식공예가장표면조조도종35.4nm강저도3.6nm,파도전수손모약위0.1dB/cm.
