CAJ | 학술논문

为提高Mo/Si多层膜的稳定性与使用寿命,通过分析多层膜驻波电场的分布,对表面保护层及多层膜最上层材料的厚度进行优化设计,使优化后的反射率最高.计算表明,一定厚度的表面保护层总对应一个最优的最上层材料厚度.在13.36 nm波长,膜对数为50的Mo/Si多层膜10度入射的理论反射率为74.47%;当添加厚度为2.3 nm的Ru作为表面保护层,对应多层膜最上层Si的优化厚度为3.93 nm,其理论反射率为75.20%.设计结果表明,通过优化设计表面保护层,可以提高多层膜稳定性,改善多层膜性能.
위제고Mo/Si다층막적은정성여사용수명,통과분석다층막주파전장적분포,대표면보호층급다층막최상층재료적후도진행우화설계,사우화후적반사솔최고.계산표명,일정후도적표면보호층총대응일개최우적최상층재료후도.재13.36 nm파장,막대수위50적Mo/Si다층막10도입사적이론반사솔위74.47%;당첨가후도위2.3 nm적Ru작위표면보호층,대응다층막최상층Si적우화후도위3.93 nm,기이론반사솔위75.20%.설계결과표명,통과우화설계표면보호층,가이제고다층막은정성,개선다층막성능.