CAJ | 학술논문

目的:采用正交设计法,对电化学浸蚀形成钛合金表面微结构工艺参数进行优化.方法:先采用L9(33)正交实验对钛合金表面进行阳极浸蚀处理,HCl浓度(A)、HF浓度(B)、NH4F浓度(C)作为3个因素.上述方法获得表面再用L9(3 3)正交实验进行交流电化学浸蚀处理,HNO3浓度(X)、电压(Y)、蚀刻时间(Z)作为3个因素.结果:获得最优微米表面的条件是:HCl酸浓度:99 g/L、HF酸浓度:51 g/L、NH4F盐浓度15 g/L;获得最优亚微米孔表面的条件是:HNO3酸浓度:246 g/L、电压4V、蚀刻时间40 s.结论:影响微米表面主要因素是HF浓度,影响亚微米表面主要因素是电压.
목적:채용정교설계법,대전화학침식형성태합금표면미결구공예삼수진행우화.방법:선채용L9(33)정교실험대태합금표면진행양겁침식처리,HCl농도(A)、HF농도(B)、NH4F농도(C)작위3개인소.상술방법획득표면재용L9(3 3)정교실험진행교류전화학침식처리,HNO3농도(X)、전압(Y)、식각시간(Z)작위3개인소.결과:획득최우미미표면적조건시:HCl산농도:99 g/L、HF산농도:51 g/L、NH4F염농도15 g/L;획득최우아미미공표면적조건시:HNO3산농도:246 g/L、전압4V、식각시간40 s.결론:영향미미표면주요인소시HF농도,영향아미미표면주요인소시전압.