电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2009年
6期
36-39
,共4页
化学机械抛光%浅沟道隔离%抛光液%二氧化铈%有机物
化學機械拋光%淺溝道隔離%拋光液%二氧化鈰%有機物
화학궤계포광%천구도격리%포광액%이양화시%유궤물
抛光液是化学机械平坦化的关键耗材.而针对STI和铜线的抛光,通常使用选择性抛光液.采用二氧化铈作为研磨颗粒的第二代抛光液,具有自动停止的特点,配合粗抛和精抛,能够十分有效解决目前STI存在的工艺缺点.而针对铜线的抛光,介绍了有机物作为研磨颗粒的抛光液.具备十分卓越的选择比,高产出和低缺陷,将是今后重点发展的产品类型之一.
拋光液是化學機械平坦化的關鍵耗材.而針對STI和銅線的拋光,通常使用選擇性拋光液.採用二氧化鈰作為研磨顆粒的第二代拋光液,具有自動停止的特點,配閤粗拋和精拋,能夠十分有效解決目前STI存在的工藝缺點.而針對銅線的拋光,介紹瞭有機物作為研磨顆粒的拋光液.具備十分卓越的選擇比,高產齣和低缺陷,將是今後重點髮展的產品類型之一.
포광액시화학궤계평탄화적관건모재.이침대STI화동선적포광,통상사용선택성포광액.채용이양화시작위연마과립적제이대포광액,구유자동정지적특점,배합조포화정포,능구십분유효해결목전STI존재적공예결점.이침대동선적포광,개소료유궤물작위연마과립적포광액.구비십분탁월적선택비,고산출화저결함,장시금후중점발전적산품류형지일.
