真空
真空
진공
VACUUM
2011年
1期
13-17
,共5页
吴忠振%田修波%段伟赞%巩春志%杨士勤
吳忠振%田脩波%段偉讚%鞏春誌%楊士勤
오충진%전수파%단위찬%공춘지%양사근
高功率脉冲磁控溅射%氮化锆薄膜%微观结构%表面性能
高功率脈遲磁控濺射%氮化鋯薄膜%微觀結構%錶麵性能
고공솔맥충자공천사%담화고박막%미관결구%표면성능
采用高功率复合脉冲磁控溅射的方法(HPPMS)在不锈钢基体上制备ZrN薄膜,对比DCMS方法制备的ZrN薄膜,得出HPPMS制备的薄膜表面更平整光滑、致密,既无空洞、又无大颗粒等缺陷.Ar/N对薄膜相结构及硬度、耐磨耐蚀等有较大影响.XRD结果显示,薄膜主要以ZrN(111)和ZrN(220)晶面择优生长,并呈现出多晶面竞相生长的现象.制备的ZrN薄膜的硬度最高可达33.1 GPa,同时摩擦系数小于0.2,耐腐蚀性也有很大提高,腐蚀电位比基体提高了0.27 V,腐蚀电流下降到未处理工件的1/5.存在一个合适的Ar/N比,使得制备的ZrN薄膜具有较好的耐磨性和耐腐蚀性.
採用高功率複閤脈遲磁控濺射的方法(HPPMS)在不鏽鋼基體上製備ZrN薄膜,對比DCMS方法製備的ZrN薄膜,得齣HPPMS製備的薄膜錶麵更平整光滑、緻密,既無空洞、又無大顆粒等缺陷.Ar/N對薄膜相結構及硬度、耐磨耐蝕等有較大影響.XRD結果顯示,薄膜主要以ZrN(111)和ZrN(220)晶麵擇優生長,併呈現齣多晶麵競相生長的現象.製備的ZrN薄膜的硬度最高可達33.1 GPa,同時摩抆繫數小于0.2,耐腐蝕性也有很大提高,腐蝕電位比基體提高瞭0.27 V,腐蝕電流下降到未處理工件的1/5.存在一箇閤適的Ar/N比,使得製備的ZrN薄膜具有較好的耐磨性和耐腐蝕性.
채용고공솔복합맥충자공천사적방법(HPPMS)재불수강기체상제비ZrN박막,대비DCMS방법제비적ZrN박막,득출HPPMS제비적박막표면경평정광활、치밀,기무공동、우무대과립등결함.Ar/N대박막상결구급경도、내마내식등유교대영향.XRD결과현시,박막주요이ZrN(111)화ZrN(220)정면택우생장,병정현출다정면경상생장적현상.제비적ZrN박막적경도최고가체33.1 GPa,동시마찰계수소우0.2,내부식성야유흔대제고,부식전위비기체제고료0.27 V,부식전류하강도미처리공건적1/5.존재일개합괄적Ar/N비,사득제비적ZrN박막구유교호적내마성화내부식성.
