CAJ | 학술논문

为了掌握沉淀反应包覆掺锑氧化锡膜形态和工艺参数对导电粉电阻率的影响规律,本文中详细研究了采用沉淀法在氧化钛表面包覆掺锑氧化锡的过程.通过采用透射电镜观察包覆产物结构,并对不同pH值下的包覆产物进行了光电子能谱分析.结合氧化钛和氧化锡水溶液的Zeta电位,提出了包覆过程和模型.结果表明:包覆过程是先均相形核,然后锡溶胶靠静电引力与范德华力共同作用吸附在氧化钛表面;当沉淀pH＝2时,氧化锡以直径为5nm胶粒单层密排在氧化钛表面.此时导电粉具有最佳导电性.
위료장악침정반응포복참제양화석막형태화공예삼수대도전분전조솔적영향규률,본문중상세연구료채용침정법재양화태표면포복참제양화석적과정.통과채용투사전경관찰포복산물결구,병대불동pH치하적포복산물진행료광전자능보분석.결합양화태화양화석수용액적Zeta전위,제출료포복과정화모형.결과표명:포복과정시선균상형핵,연후석용효고정전인력여범덕화력공동작용흡부재양화태표면;당침정pH＝2시,양화석이직경위5nm효립단층밀배재양화태표면.차시도전분구유최가도전성.