河南科学
河南科學
하남과학
HENAN SCIENCE
2012年
2期
173-175
,共3页
碳纳米管%沉积压强%PECVD
碳納米管%沉積壓彊%PECVD
탄납미관%침적압강%PECVD
采用等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD),以C2H2、H2和N2为反应气体,在镀Ni催化剂的Si基底上成功制备出多壁碳纳米管薄膜.并通过扫描电镜拍摄其表征,系统、深入地研究了沉积压强对碳管形貌的影响.结果表明:沉积压强对催化剂的刻蚀和碳纳米管薄膜的形成起着重要作用,获得定向性良好、分布均匀、密度适中的碳纳米管的最佳沉积压强是300 Pa.
採用等離子體增彊化學氣相沉積技術(PECVD),以C2H2、H2和N2為反應氣體,在鍍Ni催化劑的Si基底上成功製備齣多壁碳納米管薄膜.併通過掃描電鏡拍攝其錶徵,繫統、深入地研究瞭沉積壓彊對碳管形貌的影響.結果錶明:沉積壓彊對催化劑的刻蝕和碳納米管薄膜的形成起著重要作用,穫得定嚮性良好、分佈均勻、密度適中的碳納米管的最佳沉積壓彊是300 Pa.
채용등리자체증강화학기상침적기술(PECVD),이C2H2、H2화N2위반응기체,재도Ni최화제적Si기저상성공제비출다벽탄납미관박막.병통과소묘전경박섭기표정,계통、심입지연구료침적압강대탄관형모적영향.결과표명:침적압강대최화제적각식화탄납미관박막적형성기착중요작용,획득정향성량호、분포균균、밀도괄중적탄납미관적최가침적압강시300 Pa.
