材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2010年
18期
35-38
,共4页
CeO2@SiO2复合磨料%包覆%石英玻璃%抛光
CeO2@SiO2複閤磨料%包覆%石英玻璃%拋光
CeO2@SiO2복합마료%포복%석영파리%포광
以无水乙醇为溶剂、氨水为催化剂,利用正硅酸乙酯水解所得的SiO2微球为内核,以硝酸亚铈为铈源、六亚甲基四胺为沉淀剂,采用化学沉淀法制备了具有草莓状包覆结构的CeO2@SiO2复合颗粒.利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电镜、能谱仪、X射线光电子能谱仪、纳米激光粒度分布仪等对所制备样品的结构进行了表征.将所制备的包覆结构CeO2@SiO2复合磨料用于光学石英玻璃的化学机械抛光,采用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌,并测量了表面粗糙度.结果表明,所制备的CeO2@SiO2复合颗粒呈规则球形,粒度分布均匀,粒径为150～200nm,且具有明显的草莓状包覆结构,大量纳米CeO2颗粒紧密包覆在SiO2表面.AFM测量结果表明,抛光后玻璃表面划痕得到明显改善,在10μm×10μm范围内表面粗糙度RMS值由1.65nm降至0.484nm.
以無水乙醇為溶劑、氨水為催化劑,利用正硅痠乙酯水解所得的SiO2微毬為內覈,以硝痠亞鈰為鈰源、六亞甲基四胺為沉澱劑,採用化學沉澱法製備瞭具有草莓狀包覆結構的CeO2@SiO2複閤顆粒.利用X射線衍射儀、透射電子顯微鏡、場髮射掃描電鏡、能譜儀、X射線光電子能譜儀、納米激光粒度分佈儀等對所製備樣品的結構進行瞭錶徵.將所製備的包覆結構CeO2@SiO2複閤磨料用于光學石英玻璃的化學機械拋光,採用原子力顯微鏡觀察瞭拋光錶麵的微觀形貌,併測量瞭錶麵粗糙度.結果錶明,所製備的CeO2@SiO2複閤顆粒呈規則毬形,粒度分佈均勻,粒徑為150～200nm,且具有明顯的草莓狀包覆結構,大量納米CeO2顆粒緊密包覆在SiO2錶麵.AFM測量結果錶明,拋光後玻璃錶麵劃痕得到明顯改善,在10μm×10μm範圍內錶麵粗糙度RMS值由1.65nm降至0.484nm.
이무수을순위용제、안수위최화제,이용정규산을지수해소득적SiO2미구위내핵,이초산아시위시원、륙아갑기사알위침정제,채용화학침정법제비료구유초매상포복결구적CeO2@SiO2복합과립.이용X사선연사의、투사전자현미경、장발사소묘전경、능보의、X사선광전자능보의、납미격광립도분포의등대소제비양품적결구진행료표정.장소제비적포복결구CeO2@SiO2복합마료용우광학석영파리적화학궤계포광,채용원자력현미경관찰료포광표면적미관형모,병측량료표면조조도.결과표명,소제비적CeO2@SiO2복합과립정규칙구형,립도분포균균,립경위150～200nm,차구유명현적초매상포복결구,대량납미CeO2과립긴밀포복재SiO2표면.AFM측량결과표명,포광후파리표면화흔득도명현개선,재10μm×10μm범위내표면조조도RMS치유1.65nm강지0.484nm.
