应用化学
應用化學
응용화학
CHINESE JOURNAL OF APPLIED CHEMISTRY
2008年
12期
1487-1489
,共3页
Heck反应%二苯乙烯衍生物%钯催化剂
Heck反應%二苯乙烯衍生物%鈀催化劑
Heck반응%이분을희연생물%파최화제
采用Heck反应合成出6个带有不同推拉电子基团的二苯乙烯衍生物,产率68%～84%.研究了反应物分子结构对Heck偶联反应的影响,对实验条件进行了优化并探讨了其反应机理.结果表明,反应温度120℃,溶剂DMF 和Et3N体积比为2: 1时可以获得较高产率.同时我们还发现,不同的反应物结构对Heck反应产率的影响较大,随着反应物中双键的电子云密度的降低(对甲基苯乙烯>苯乙烯>4-乙烯吡啶),反应产率依次降低;芳卤的反应活性表现为:NO2-Ar-Br>H-Ar-Br>CH3-Ar-Br.
採用Heck反應閤成齣6箇帶有不同推拉電子基糰的二苯乙烯衍生物,產率68%～84%.研究瞭反應物分子結構對Heck偶聯反應的影響,對實驗條件進行瞭優化併探討瞭其反應機理.結果錶明,反應溫度120℃,溶劑DMF 和Et3N體積比為2: 1時可以穫得較高產率.同時我們還髮現,不同的反應物結構對Heck反應產率的影響較大,隨著反應物中雙鍵的電子雲密度的降低(對甲基苯乙烯>苯乙烯>4-乙烯吡啶),反應產率依次降低;芳滷的反應活性錶現為:NO2-Ar-Br>H-Ar-Br>CH3-Ar-Br.
채용Heck반응합성출6개대유불동추랍전자기단적이분을희연생물,산솔68%～84%.연구료반응물분자결구대Heck우련반응적영향,대실험조건진행료우화병탐토료기반응궤리.결과표명,반응온도120℃,용제DMF 화Et3N체적비위2: 1시가이획득교고산솔.동시아문환발현,불동적반응물결구대Heck반응산솔적영향교대,수착반응물중쌍건적전자운밀도적강저(대갑기분을희>분을희>4-을희필정),반응산솔의차강저;방서적반응활성표현위:NO2-Ar-Br>H-Ar-Br>CH3-Ar-Br.
