微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2007年
4期
200-205,216
,共7页
扭曲%PDMS印章%角度量化%硅烷修饰玻璃%软光刻技术
扭麯%PDMS印章%角度量化%硅烷脩飾玻璃%軟光刻技術
뉴곡%PDMS인장%각도양화%규완수식파리%연광각기술
引进与平面图案变形扭曲大小相称的角度参数θ,提出了一种对软光刻技术中PDMS印章的角度平面扭曲进行定量评价的方法.聚二甲基硅氧烷(PDMS)平面印章的单个图案的平均扭曲角(绝对扭曲角θ1)和相邻图案间的扭曲角(相对扭曲角θ2)由角度参数θ的差值(θ)决定.经四种不同粘附固定处理的PDMS印章中进行角度定量估算比较,发现采用硅烷修饰的玻璃板基板制备的PDMS印章显示很强的粘附性和最小的平面变形扭曲,其绝对扭曲角度θ1为3.98×10-3,相对扭曲角θ2为1.22×10-3.研究结果表明,角度定量化估算可实现软光刻中图案平面变形扭曲的定量评价和比较,并通用于弹性印章基板筛分选择.
引進與平麵圖案變形扭麯大小相稱的角度參數θ,提齣瞭一種對軟光刻技術中PDMS印章的角度平麵扭麯進行定量評價的方法.聚二甲基硅氧烷(PDMS)平麵印章的單箇圖案的平均扭麯角(絕對扭麯角θ1)和相鄰圖案間的扭麯角(相對扭麯角θ2)由角度參數θ的差值(θ)決定.經四種不同粘附固定處理的PDMS印章中進行角度定量估算比較,髮現採用硅烷脩飾的玻璃闆基闆製備的PDMS印章顯示很彊的粘附性和最小的平麵變形扭麯,其絕對扭麯角度θ1為3.98×10-3,相對扭麯角θ2為1.22×10-3.研究結果錶明,角度定量化估算可實現軟光刻中圖案平麵變形扭麯的定量評價和比較,併通用于彈性印章基闆篩分選擇.
인진여평면도안변형뉴곡대소상칭적각도삼수θ,제출료일충대연광각기술중PDMS인장적각도평면뉴곡진행정량평개적방법.취이갑기규양완(PDMS)평면인장적단개도안적평균뉴곡각(절대뉴곡각θ1)화상린도안간적뉴곡각(상대뉴곡각θ2)유각도삼수θ적차치(θ)결정.경사충불동점부고정처리적PDMS인장중진행각도정량고산비교,발현채용규완수식적파리판기판제비적PDMS인장현시흔강적점부성화최소적평면변형뉴곡,기절대뉴곡각도θ1위3.98×10-3,상대뉴곡각θ2위1.22×10-3.연구결과표명,각도정양화고산가실현연광각중도안평면변형뉴곡적정량평개화비교,병통용우탄성인장기판사분선택.
