多元氮化物薄膜及其沉积工艺对NiTi记忆合金性能和组织的影响
다원담화물박막급기침적공예대NiTi기억합금성능화조직적영향
Effect of multi-component nitride films and their deposition process on the properties and microstructure of NiTi shape memory alloy substrate
  • 万方数据
    功能材料 공능재료
    JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
    2006年 6期 905-908 ,共4页

    谢致薇%白晓军%王国庆%杨元政%廖志明%匡同春%成晓玲%冉炜%郭冰%舒大龙

    사치미%백효군%왕국경%양원정%료지명%광동춘%성효령%염위%곽빙%서대룡

    多元氮化物薄膜%NiTi形状记忆合金%差示扫描量热法(DSC)%Ni溶出 多元氮化物薄膜%NiTi形狀記憶閤金%差示掃描量熱法(DSC)%Ni溶齣
    다원담화물박막%NiTi형상기억합금%차시소묘량열법(DSC)%Ni용출
    采用真空阴极电弧沉积技术,在NiTi记忆合金表面沉积了TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜和TiN薄膜,研究了薄膜成份及沉积工艺对NiTi合金性能和组织的影响.结果表明,在NiTi合金表面沉积TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜和TiN薄膜均可降低合金在Hank溶液中的Ni溶出速率,其中多元膜的Ni溶出速率最小;提高偏压对沉积了TiAlBN多元膜的NiTi合金的Ni溶出速率无明显影响,但使沉积了TiAlCrFeSiBN膜的NiTi合金的Ni溶出速率降低.在TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜表面存在较多细小的钛滴和孔隙,钛滴与薄膜基体之间的融合良好;在TiN薄膜表面存在一些大钛滴和孔隙,钛滴与薄膜基体之间的融合不好.镀膜后,NiTi基体的加热相变点移向低温区,其幅度与薄膜成份及沉积工艺有关,提高偏压使沉积了两种多元膜的NiTi基体的相变点移动幅度增大,但却使沉积了TiN膜的NiTi基体的相变点的移动幅度减小.镀膜过程均使NiTi中的M体尺寸增大.
    채용진공음겁전호침적기술,재NiTi기억합금표면침적료TiAlBN화TiAlCrFeSiBN다원막화TiN박막,연구료박막성빈급침적공예대NiTi합금성능화조직적영향.결과표명,재NiTi합금표면침적TiAlBN화TiAlCrFeSiBN다원막화TiN박막균가강저합금재Hank용액중적Ni용출속솔,기중다원막적Ni용출속솔최소;제고편압대침적료TiAlBN다원막적NiTi합금적Ni용출속솔무명현영향,단사침적료TiAlCrFeSiBN막적NiTi합금적Ni용출속솔강저.재TiAlBN화TiAlCrFeSiBN다원막표면존재교다세소적태적화공극,태적여박막기체지간적융합량호;재TiN박막표면존재일사대태적화공극,태적여박막기체지간적융합불호.도막후,NiTi기체적가열상변점이향저온구,기폭도여박막성빈급침적공예유관,제고편압사침적료량충다원막적NiTi기체적상변점이동폭도증대,단각사침적료TiN막적NiTi기체적상변점적이동폭도감소.도막과정균사NiTi중적M체척촌증대.
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