中国科学E辑
中國科學E輯
중국과학E집
SCIENCE IN CHINA (SERIES E)
2000年
2期
127-131
,共5页
贺洪波%范正修%姚振钰%汤兆胜
賀洪波%範正脩%姚振鈺%湯兆勝
하홍파%범정수%요진옥%탕조성
发光材料%ZnO%磁控溅射%结构%X射线摇摆曲线
髮光材料%ZnO%磁控濺射%結構%X射線搖襬麯線
발광재료%ZnO%자공천사%결구%X사선요파곡선
采用常规磁控溅射方法,通过优化工艺,在Si(100),Si(111)多种基片上沉积ZnO薄膜. 利用透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)和X射线摇摆曲线(XRC),对ZnO薄膜的微区形貌、结晶情况、C轴择优取向进行了详细的测试分析. 结果表明,所制备的ZnO薄膜具有理想的结构特性,大多数样品测得ZnO(002)晶面XRC的半高宽(FWHM)为1°左右,最小值达0.353°,优于目前国内外同类研究的最佳结果2°. 并对ZnO/Si(100)与ZnO/Si(111)衬底的结果进行了比较和讨论.
採用常規磁控濺射方法,通過優化工藝,在Si(100),Si(111)多種基片上沉積ZnO薄膜. 利用透射電鏡(TEM)、X射線衍射(XRD)和X射線搖襬麯線(XRC),對ZnO薄膜的微區形貌、結晶情況、C軸擇優取嚮進行瞭詳細的測試分析. 結果錶明,所製備的ZnO薄膜具有理想的結構特性,大多數樣品測得ZnO(002)晶麵XRC的半高寬(FWHM)為1°左右,最小值達0.353°,優于目前國內外同類研究的最佳結果2°. 併對ZnO/Si(100)與ZnO/Si(111)襯底的結果進行瞭比較和討論.
채용상규자공천사방법,통과우화공예,재Si(100),Si(111)다충기편상침적ZnO박막. 이용투사전경(TEM)、X사선연사(XRD)화X사선요파곡선(XRC),대ZnO박막적미구형모、결정정황、C축택우취향진행료상세적측시분석. 결과표명,소제비적ZnO박막구유이상적결구특성,대다수양품측득ZnO(002)정면XRC적반고관(FWHM)위1°좌우,최소치체0.353°,우우목전국내외동류연구적최가결과2°. 병대ZnO/Si(100)여ZnO/Si(111)츤저적결과진행료비교화토론.
