电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2002年
4期
1-4
,共4页
共沉积%恒电位%恒电流%脉冲%Co-Nd
共沉積%恆電位%恆電流%脈遲%Co-Nd
공침적%항전위%항전류%맥충%Co-Nd
研究了室温下含有NdCl3、CoCl2、极性非质子溶剂二甲基甲酰胺及少量水的溶液中电沉积制备Co-Nd稀土功能合金膜.在控制溶液中NdCl3+CoCl2的总量为0.2 mol/L的电镀液中以-3.00 V进行恒电位电镀;电流密度为15 mA/cm2进行恒电流电镀或脉冲电流密度5～15 mA/cm2进行脉冲电镀,可得到不同形态和不同的Nd的质量分数的稀土功能合金膜.
研究瞭室溫下含有NdCl3、CoCl2、極性非質子溶劑二甲基甲酰胺及少量水的溶液中電沉積製備Co-Nd稀土功能閤金膜.在控製溶液中NdCl3+CoCl2的總量為0.2 mol/L的電鍍液中以-3.00 V進行恆電位電鍍;電流密度為15 mA/cm2進行恆電流電鍍或脈遲電流密度5～15 mA/cm2進行脈遲電鍍,可得到不同形態和不同的Nd的質量分數的稀土功能閤金膜.
연구료실온하함유NdCl3、CoCl2、겁성비질자용제이갑기갑선알급소량수적용액중전침적제비Co-Nd희토공능합금막.재공제용액중NdCl3+CoCl2적총량위0.2 mol/L적전도액중이-3.00 V진행항전위전도;전류밀도위15 mA/cm2진행항전류전도혹맥충전류밀도5～15 mA/cm2진행맥충전도,가득도불동형태화불동적Nd적질량분수적희토공능합금막.
